气溶胶生成装置制造方法及图纸

技术编号:43602661 阅读:18 留言:0更新日期:2024-12-11 14:50
本申请的气溶胶生成装置包括:壳体;第一支架,限定有用于储存液体基质的储液腔,至少部分限定用于递送气溶胶的第一气溶胶通道和第二气溶胶通道,第一气溶胶通道和第二气溶胶通道位于储液腔的两侧;第一雾化组件和第二雾化组件,用于接收源自储液腔的液体基质并雾化生成气溶胶;第二支架,第二支架安装于壳体并连接于第一支架,第一支架和第二支架之间限定有雾化腔;阻挡部,阻挡部位于第一雾化组件和第二雾化组件之间,并且将雾化腔分隔为第一雾化腔和第二雾化腔。本申请将雾化腔分隔成第一雾化腔和第二雾化腔的阻挡部,使得第一雾化组件和第二雾化组件之间不会产生紊流,从而雾化腔中的气溶胶不易冷凝,避免了液体基质泄露。

【技术实现步骤摘要】

本申请实施例涉及气溶胶生成,特别涉及气溶胶生成装置


技术介绍

1、气溶胶生成装置中通常设置有用于加热液体基质的雾化组件,雾化组件将液体基质加热形成气溶胶供用户吸食。为了使得用户获得更好的抽吸体验,气溶胶生成装置中可设置两个雾化组件,但是两个雾化组件使得气溶胶生成装置的雾化腔中的气体流动情况更加复杂,在抽吸过程中两个雾化组件之间的区域会产生紊流,导致该区域会滞留部分气溶胶,从而造成两个雾化组件之间的区域中的气溶胶容易冷凝,导致液体基质泄露的风险。


技术实现思路

1、为了解决气溶胶生成装置中两个雾化组件之间的区域容易产生紊流,导致雾化腔中气溶胶容易在该区域滞留并且冷凝的问题,本申请提供了气溶胶生成装置的以下实施方案。

2、本申请的一个实施例提供一种气溶胶生成装置,该气溶胶生成装置包括:壳体,第一支架,限定有用于储存液体基质的储液腔,以及至少部分限定用于递送气溶胶的第一气溶胶通道和第二气溶胶通道,所述第一气溶胶通道和所述第二气溶胶通道位于所述储液腔的两侧;第一雾化组件和第二雾化组件,所述第一雾化组件和本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气溶胶生成装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述阻挡部包括间隔设置的第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板将所述雾化腔分隔为第一雾化腔、第二雾化腔和位于所述第一雾化腔和所述第二雾化腔之间的气流检测腔,所述气流检测腔与所述第一雾化腔和所述第二雾化腔中的至少一个气体导通。

3.根据权利要求2所述的气溶胶生成装置,其特征在于,还包括用于吸附部分液体基质的吸收元件,所述吸收元件安装于所述第二支架朝向所述雾化腔的一侧。

4.根据权利要求3所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述第一挡板抵接于所述吸收元件,...

【技术特征摘要】

1.一种气溶胶生成装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述阻挡部包括间隔设置的第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板将所述雾化腔分隔为第一雾化腔、第二雾化腔和位于所述第一雾化腔和所述第二雾化腔之间的气流检测腔,所述气流检测腔与所述第一雾化腔和所述第二雾化腔中的至少一个气体导通。

3.根据权利要求2所述的气溶胶生成装置,其特征在于,还包括用于吸附部分液体基质的吸收元件,所述吸收元件安装于所述第二支架朝向所述雾化腔的一侧。

4.根据权利要求3所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述第一挡板抵接于所述吸收元件,或所述第二挡板抵接于所述吸收元件。

5.根据权利要求2所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述第二支架限定有气流检测通道,所述气流检测通道和所述气流检测腔相对设置,所述气流检测通道与所述第一雾化腔和所述第二雾化腔中的至少一者气体导通。

6.根据权利要求5所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述第二支架限定有安装腔,所述安装腔与所述气流检测通道气体导通,所述安装腔内安装有气流传感器。

7.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置,其特征在于,所述第二支架限定有第一进气通道和第二进气通道,所述第一进气通道与所述第一雾化腔气体导通并且设置在所述第一雾化组件远离所述第一气溶胶通道的一侧,所述第二进气通道和所述第二雾化腔气体导通并且设置在所述第二雾化组件远离所述第二气溶胶通道的...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁志徐中立李永海
申请(专利权)人:深圳市合元科技有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1