【技术实现步骤摘要】
【】本技术涉及一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构。
技术介绍
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技术介绍
1、在面板厂的cf涂布区vcd真空设备中，其主要作用为：将腔体环境压通过pump抽至接近真空状态10pa以下，将内基板上方湿膜光阻中溶剂(pgmea)蒸发抽出，减压干燥的方式增加光阻与基板之间密合状态，保证成膜率。
2、其设备主要承接基板及保证真空流体均匀性为整流板设计，整流板下方因配合真空排气孔位需以底座固定，现有设计为圆柱型，皆以sus304的材质制作底座及固锁螺栓固锁至腔体底部，其材质与结构单一，在长期真空排气使用过程，腔体、底座和整流板间因振动而摩擦发尘，造成腔体内环境扬尘问题，乃至破坏整流板表面造成生锈等问题，造成产品品质不良。
技术实现思路
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技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题，在于提供一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其可避免整流板与底座因真空微震摩擦产尘乃至破坏整流板表面造成生锈等问题，有效降低机构磨损所造成的产品不良或报
【技术保护点】
1.一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其特征在于：包括底座本体、铁氟龙上盖、铁氟龙垫片、第一螺栓以及第二螺栓，所述底座本体为圆柱形，所述铁氟龙上盖设置在所述底座本体上方，所述铁氟龙垫片设置在所述底座本体下方；
2.如权利要求1所述的一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其特征在于：所述底座本体采用SUS304材质。
3.如权利要求1所述的一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其特征在于：所述第一螺栓和第二螺栓采用钛合金材质。
4.如权利要求1所述的一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结...
【技术特征摘要】
1.一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其特征在于：包括底座本体、铁氟龙上盖、铁氟龙垫片、第一螺栓以及第二螺栓，所述底座本体为圆柱形，所述铁氟龙上盖设置在所述底座本体上方，所述铁氟龙垫片设置在所述底座本体下方；
2.如权利要求1所述的一种可避免微震磨耗影响的分体式整流板支撑底座结构，其特征在于：所述底座本体采用sus304材质。
3.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：许振，林剑航，汪家伟，林志维，杨朝胜，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：新型
国别省市：
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