【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁畴成像,尤其涉及一种可调照明区域的磁畴成像装置。
技术介绍
1、磁畴成像技术,一种重要的材料科学研究工具,它利用检测光在被测磁性材料表面反射后偏振态的变化来观测和分析磁畴结构。此技术为科研人员和工程师们提供了直观、精准的磁畴结构和行为分析方式,对于理解材料的磁性特性和优化磁性材料设计具有重要意义。
2、然而,在磁畴成像技术的发展与应用过程中,照明控制环节逐渐显现出其关键性。传统的磁畴成像装置,其照明系统通常采用固定的照明区域,这种设计在面对形状、大小和特性各异的样品时,显得力不从心。由于无法根据实际需求灵活调整照明位置,这些装置的成像灵活性和精度受到了严重限制,从而影响了磁畴成像的准确性和有效性。
3、为了获得更高质量的成像效果,对照明区域进行更精确的控制尤为重要。然而,这一目标的实现并不容易。传统的光路设计往往复杂且安装精度要求高,这不仅增加了设备的制造成本,也降低了用户的使用便捷性。同时,由于样品的局部形状差异,可能会在成像过程中形成亮斑,这些亮斑会严重影响图片的整体亮度和成像效果,进而干扰到
...【技术保护点】
1.一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述装置包括:光发生组件、光路调整组件、成像组件;
2.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述偏振光倾斜入射所述被测物。
3.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述装置还包括分光组件;
4.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述光发生组件至少包括:激光光源、起偏器;
5.根据权利要求4所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述光发生组件还包括准直器,所述准直器设置于所述激光
...【技术特征摘要】
1.一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述装置包括:光发生组件、光路调整组件、成像组件;
2.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述偏振光倾斜入射所述被测物。
3.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述装置还包括分光组件;
4.根据权利要求1所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述光发生组件至少包括:激光光源、起偏器;
5.根据权利要求4所述的一种可调照明区域的磁畴成像装置,其特征在于,所述光发生组件还包括准直器,所述准直器设置于所述激光光源所产生的照明光线的...
【专利技术属性】
技术研发人员:张学莹,杜洪磊,孙天然,欧阳玉东,王麟,
申请(专利权)人:致真精密仪器青岛有限公司,
类型:发明
国别省市:
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