【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文的描述涉及可以用于带电粒子束系统领域的带电粒子计数检测器,更具体地涉及用于过滤带电粒子计数检测器中的错误检测数据的系统和方法。
技术介绍
1、检测器可以被用于感测物理上可观察到的现象。例如,诸如电子显微镜等带电粒子束工具可以包括检测器,其接收从样品投影的带电粒子并且输出检测信号。检测信号可以被用于重构检查中的样品结构的图像,并且可以被用于例如量测过程或者揭示样品中的缺陷。量测涉及样品结构和其他小型化特征的精确测量。例如,在半导体晶片中,量测可以包括诸如临界尺寸(最小设备特征的宽度)、临界尺寸均匀性、线宽、套刻、线边缘粗糙度、线端缩短、地板倾斜、侧壁角度和其他尺寸参数等测量。量测还可以包括基于来自检测信号的重构图像的材料分析。在半导体器件的制造中,样品中的缺陷的检测也越来越重要,该半导体器件可以包括大量密集包装的小型化集成电路(ic)组件。可以为这些和其他目的提供检查系统。
2、随着半导体器件的持续小型化,检查系统可以在带电粒子束工具中使用越来越低的束电流。现有检测系统可能会受到信噪比(snr)和系统吞吐量的限制,特别是当
...【技术保护点】
1.一种非瞬态计算机可读介质,所述非瞬态计算机可读介质存储指令集,所述指令集能够由设备的至少一个处理器执行,以使所述设备执行方法,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述参考分布信息包括所述带电粒子检测器上的预期入射位置。
3.根据权利要求2所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述预期入射位置基于带电粒子束装置的带电粒子束参数。
4.根据权利要求3所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述带电粒子束参数包括:初级束参数、检测器位置、电极电压、带电粒子着陆能量或者样品像素在带电粒子束装置的视场内的位置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种非瞬态计算机可读介质,所述非瞬态计算机可读介质存储指令集,所述指令集能够由设备的至少一个处理器执行,以使所述设备执行方法,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述参考分布信息包括所述带电粒子检测器上的预期入射位置。
3.根据权利要求2所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述预期入射位置基于带电粒子束装置的带电粒子束参数。
4.根据权利要求3所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述带电粒子束参数包括:初级束参数、检测器位置、电极电压、带电粒子着陆能量或者样品像素在带电粒子束装置的视场内的位置。
5.根据权利要求2所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述预期入射位置基于带电粒子束过程中的样品像素位置处的样品的样品像素参数。
6.根据权利要求5所述的非瞬态计算机可读介质,其中所述样品像素参数包括所述样品像素位置处的所述样品的材料特点或形貌。
7.根据权利要求1所述的非瞬态计算机可读介质,其中:
8.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员:I·范韦佩伦,任岩,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:
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