一种工业化连续制备四氟化硅的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种工业化连续制备四氟化硅的装置，涉及氟化物制备技术领域，包括上料机构、搅拌机构、输送机构、真空机构、回转炉、出料机构和储料机构，将物料依次送入上料机构、真空机构、输送机构、回转炉、出料机构和储料机构进行处理操作，搅拌机构对上料机构中的物料进行搅拌处理。本发明专利技术通过设置片式真空泵、输送机构、出料机构以及结合各个控制阀的开闭可以实现在真空状态下的连续进料，连续出料，可以在高温条件下一定时间内保持真空状态。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及氟化物制备，具体涉及一种工业化连续制备四氟化硅的装置。

技术介绍

1、四氟化硅广泛应用于电子和半导体行业，可用作生产高纯石英玻璃、太阳能电池、氮化硅、蚀刻剂、p型掺杂剂及外延沉积扩散硅源，还可用于制备水泥以及大理石的硬化剂、光敏剂、电子级硅烷或多晶硅等。四氟化硅还是硅基半导体器件制造采用的离子注入法中的一种重要成分，四氟化硅在微电子行业有着广泛的应用前景。

2、目前四氟化硅相关的制备结构存在无法在高温条件下长时间保持真空状态以及真空状态下无法连续进料、出料的问题。

技术实现思路

1、本专利技术针对现有技术存在的问题，提供了一种工业化连续制备四氟化硅的装置。

2、为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：

3、一种工业化连续制备四氟化硅的装置，包括上料机构、搅拌机构、输送机构、真空机构、回转炉、出料机构和储料机构，将物料依次送入上料机构、真空机构、输送机构、回转炉、出料机构和储料机构进行处理操作，搅拌机构对上料机构中的物料进行搅拌处理；上料机构设于真空机构上本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：包括上料机构、搅拌机构、输送机构、真空机构、回转炉、出料机构和储料机构，将物料依次送入上料机构、真空机构、输送机构、回转炉、出料机构和储料机构进行处理操作，搅拌机构对上料机构中的物料进行搅拌处理；上料机构设于真空机构上方，真空机构包括真空仓、卸料管、第一片式真空泵和过滤器，真空机构的卸料管出口端连通输送机构进料口端，然后经过输送机构输送的物料进入回转炉内进行处理；真空仓和上料机构都通过管路连接过滤器，过滤器连接第一片式真空泵。

2.根据权利要求1所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述上料机构包括真空上料机、上...

【技术特征摘要】

1.一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：包括上料机构、搅拌机构、输送机构、真空机构、回转炉、出料机构和储料机构，将物料依次送入上料机构、真空机构、输送机构、回转炉、出料机构和储料机构进行处理操作，搅拌机构对上料机构中的物料进行搅拌处理；上料机构设于真空机构上方，真空机构包括真空仓、卸料管、第一片式真空泵和过滤器，真空机构的卸料管出口端连通输送机构进料口端，然后经过输送机构输送的物料进入回转炉内进行处理；真空仓和上料机构都通过管路连接过滤器，过滤器连接第一片式真空泵。

2.根据权利要求1所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述上料机构包括真空上料机、上料仓和下料管，真空上料机设于上料仓的上方，下料管与上料仓的底部连接，且下料管与真空仓连通。

3.根据权利要求2所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述上料仓的底部和下料管连接处设有第一真空蝶阀，该第一真空蝶阀为高温电动真空蝶阀。

4.根据权利要求2所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述上料仓通过管路连接过滤器，且管路上设有若干个真空球阀。

5.根据权利要求1所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述搅拌机构包括搅拌减速电机、搅拌杆和搅拌叶，其中，搅拌减速电机设于上料仓的上方，且搅拌减速电机的输出轴连接搅拌杆一端，搅拌杆另一端穿过上料仓上端延伸至上料仓内部，搅拌叶安装在搅拌杆上。

6.根据权利要求1所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述输送机构为单螺杆或双螺杆输送结构。

7.根据权利要求1所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述回转炉包括护罩、炉膛、炉体和旋片，炉膛设于护罩内部，炉体设于炉膛内部，且炉体端部伸出炉膛内部与输送机构的输出端对接，炉体内壁设有若干个旋片。

8.根据权利要求7所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述护罩、炉膛、炉体都为筒状结构，且护罩、炉膛、炉体沿同一方向同轴线设置。

9.根据权利要求7所述的一种工业化连续制备四氟化硅的装置，其特征在于：所述炉体的一端与输送机构对接的位置设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘志新，朱波，刘子杰，
申请(专利权)人：齐磷科技开阳有限责任公司，
类型：发明
国别省市：