【技术实现步骤摘要】
本技术涉及电磁屏蔽领域，尤指一种带吸附位的屏蔽架及屏蔽组件。
技术介绍
1、电磁屏蔽件是用于屏蔽电子设备内的某些电子元器件，以使所述电子元器件干扰外界其他设备或避免该电子元器件免受外界电磁干扰。屏蔽件包括直接焊接于电路板上不可以打开的屏蔽罩、以及为了检修将屏蔽件设计成屏蔽架与屏蔽盖结合的组件，屏蔽架上端开口并焊接于电路板上，再将屏蔽盖组装于所述屏蔽架上实现对电路板上的芯片元件等的电磁屏蔽性能；若需要检修时，仅需将所述屏蔽盖取下即可从所述屏蔽架的上端窗口进行检修。
2、如中华人民共和国第201720846645.6号专利申请揭示了一种便于检修的屏蔽件，其包括屏蔽架及组装于所述屏蔽架上的屏蔽盖。所述屏蔽架顶部开设有至少一个检修窗口，而所述检修窗口会通过所述屏蔽盖进行遮盖，为便于屏蔽架在工序上的移动、包括及运输后客户贴片，需要在所述屏蔽架上设置至少一个吸附片，但是所述吸附片会占用屏蔽架内的屏蔽空间，可能造成屏蔽组件的整体高度升高。
技术实现思路
1、鉴于此，有必要提供一种产品高度较低...
【技术保护点】
1.一种带吸附位的屏蔽架，包括顶缘、自所述顶缘周边向下折弯延伸形成的侧壁、自所述侧壁底端向外翻折形成的翻边及开设于所述顶缘内的检视窗口，其特征在于，所述屏蔽架还包括连接于所述顶缘内侧并位于所述检视窗口上的吸附片，所述吸附片包括吸附区域及自所述吸附区域至少一侧延伸并连接于所述顶缘内侧的连接条，所述吸附片在所述屏蔽架焊接于印刷电路板上后去除。
2.如权利要求1所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述吸附区域大于所述连接条的面积，所述连接条与所述顶缘内侧连接处的上下表面预冲压形成有预断槽。
3.如权利要求2所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述连接...
【技术特征摘要】
1.一种带吸附位的屏蔽架，包括顶缘、自所述顶缘周边向下折弯延伸形成的侧壁、自所述侧壁底端向外翻折形成的翻边及开设于所述顶缘内的检视窗口，其特征在于，所述屏蔽架还包括连接于所述顶缘内侧并位于所述检视窗口上的吸附片，所述吸附片包括吸附区域及自所述吸附区域至少一侧延伸并连接于所述顶缘内侧的连接条，所述吸附片在所述屏蔽架焊接于印刷电路板上后去除。
2.如权利要求1所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述吸附区域大于所述连接条的面积，所述连接条与所述顶缘内侧连接处的上下表面预冲压形成有预断槽。
3.如权利要求2所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述连接条外侧向下折弯形成有折弯部，所述折弯部再次水平折弯延伸形成结合部，所述连接条通过所述结合部与所述顶缘内侧连接为一体，所述预断槽设于所述结合部与所述顶缘内侧的连接处。
4.如权利要求3所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述结合部与所述顶缘内侧的连接处还开设有切口，所述切口位于所述结合部与所述顶缘内侧中间，所述预断槽位于所述切口纵向两侧。
5.如权利要求4所述的带吸附位的屏蔽架，其特征在于，所述连接条包括沿所述吸附区域横向两侧延伸形成的两条连接条，每条连接条分别连接相对设置的一对顶缘内侧...
【专利技术属性】
技术研发人员：韦冬秀，
申请(专利权)人：深圳市长盈精密技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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