一种AMC阈值动态调节方法及系统技术方案

本发明专利技术适用于阈值调节技术领域，尤其涉及一种AMC阈值动态调节方法及系统，所述方法包括：S100：采集AMC组分的历史测量值，遍历出影响因素，所述影响因素至少包括：AMC残留、生产任务和温度，利用预设的检测设备，获取所述影响因素的历史读数，并确定出每个影响因素的偏离权重，并偏离所述历史测量值，计算出预测值；S200：构建与所述影响因素一一对应的数块，将所述偏离权重迁移到对应的数块中，记录下AMC组分的实时测量值。本发明专利技术通过利用历史阈值，能够初步确定AMC组分阈值，同时得以对阈值进行动态调整，优化资源利用，通过利用二次验证机制对变动数块进行验证，避免出现误报，进一步提高了动态阈值的准确性，同时也大大提高了用户体验。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及污染物检测，具体是一种amc阈值动态调节方法及系统。

技术介绍

1、amc指的是在半导体生产过程中，影响晶圆加工的污染气体混合物，半导体生产车间内的amc的来源分为外部源和内部源，外部源主要来自于供应给洁净室内部的空气净化和过滤系统，内部源则可能来自于多个源头，包括工艺残余、清洁溶剂使用、洁净室内材料逸出和设备保养等。

2、amc达到某一固定浓度（阈值）才会报警，但是在实际应用中，可能存在相邻检测行为的影响，比如前次amc在设备中有残留，此时，阈值需要调高，防止误报；因此，“如何利用历史数据确定动态阈值，降低误报概率”是本专利技术所需要解决的技术问题。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种amc阈值动态调节方法及系统，以解决上述
技术介绍
中提出“如何确定动态阈值，降低误报概率”的问题。

2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：

3、一种amc阈值动态调节方法，所述方法包括：

4、s100：采集amc组分的历史测量值，遍历出影响因素，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述S100包括：

3.根据权利要求1所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述S100还包括：

4.根据权利要求2所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述S200包括：

5.根据权利要求2所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述S300包括：

6.根据权利要求1所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，所述S400包括：

7.根据权利要求6所述的AMC阈值动态调节方法，其特征在于，...

【技术特征摘要】

1.一种amc阈值动态调节方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的amc阈值动态调节方法，其特征在于，所述s100包括：

3.根据权利要求1所述的amc阈值动态调节方法，其特征在于，所述s100还包括：

4.根据权利要求2所述的amc阈值动态调节方法，其特征在于，所述s200包括：

5.根据权利要求2所述的amc阈值动态调节方法，其特征在于，所述s300包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：江大白，连杰，胡增，赵阳，王枫，李华新，汪刚，
申请(专利权)人：中用科技有限公司，
类型：发明
国别省市：