树脂组合物、感光干膜及其应用制造技术

本发明专利技术提供了一种树脂组合物、感光干膜及其应用。按重量份计，该树脂组合物包括：40～70份的碱溶性树脂、20～50份的光聚合单体、0.5～10份的光引发剂以及0.05～1.5份的聚醚改性硅消泡剂；聚醚改性硅消泡剂中包括气相SiO2；树脂组合物中，硅元素的含量为10～350ppm。本发明专利技术提供了一种包含有聚醚改性硅消泡剂的树脂组合物，同时基于该具备特定固含量与粘度的含气相SiO2的聚醚改性硅消泡剂的消泡作用，显著降低了该树脂组合物在形成感光干膜并显影时产生的泡沫量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及干膜抗蚀剂领域，具体而言，涉及一种树脂组合物、感光干膜及其应用。

技术介绍

1、在印刷电路板、引线框架、太阳能电池、导体封装、bga(ball grid array)、cps(chipsize package)封装中，感光干膜被广泛用作图形转移的关键材料。例如，在制造印刷电路板时，先在铜基板上贴合感光干膜，用具有一定图案的掩模遮盖于感光干膜上，进行图形曝光。然后利用弱碱性水溶液作为显影液去除未曝光部位，再实施蚀刻或电镀处理而形成图形。最后用强碱水溶液作为去膜液去除固化部分，从而实现图形转移。

2、但是，印刷线路板实际生产的显影过程中，容易产生大量泡沫，显影液被泡沫不断带走则会导致液位明显下降，从而导致显影压力不足，影响显影后干膜解析性能和附着性能，同时也严重影响生产的正常进行。专利cn111796483b通过选用聚醚型消泡剂，得到显影泡沫低的树脂组合物，然而仍然难以满足生产需求，其消泡效果有待进一步提升。

3、基于此，如何提供一种用以形成感光干膜的树脂组合物，以使得所得感光干膜在显影过程中所产生的泡沫量减少，从而提升显本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种树脂组合物，其特征在于，按重量份计，所述树脂组合物包括：40～70份的碱溶性树脂、20～50份的光聚合单体、0.5～10份的光引发剂以及0.05～1.5份的聚醚改性硅消泡剂；

2.根据权利要求1所述的树脂组合物，其特征在于，所述聚醚改性硅消泡剂的固含量＞90％，所述聚醚改性硅消泡剂在25℃下的粘度为100～500mPa·s。

3.根据权利要求1或2所述的树脂组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂的酸值为120～200mgKOH/g；所述碱溶性树脂的重均分子量为30000～150000，优选为60000～120000。

4.根据权利要求1至3中任一项...

【技术特征摘要】

1.一种树脂组合物，其特征在于，按重量份计，所述树脂组合物包括：40～70份的碱溶性树脂、20～50份的光聚合单体、0.5～10份的光引发剂以及0.05～1.5份的聚醚改性硅消泡剂；

2.根据权利要求1所述的树脂组合物，其特征在于，所述聚醚改性硅消泡剂的固含量＞90％，所述聚醚改性硅消泡剂在25℃下的粘度为100～500mpa·s。

3.根据权利要求1或2所述的树脂组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂的酸值为120～200mgkoh/g；所述碱溶性树脂的重均分子量为30000～150000，优选为60000～120000。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的树脂组合物，其特征在于，所述碱溶性树脂为含羧基的乙烯基类树脂，且所述含羧基的乙烯基类树脂由不饱和羧酸和乙烯基化合物共聚得到；

5.根据权利要求4所述的树脂组合物，其特征在于，所述丙烯酸烷基酯的烷基链段中包括c1～c3烷基链段，且以所述丙烯酸烷基酯的总重量为100％计，所述c1～c3烷基链段对应单体的含量＞50％。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的树脂组合物，其特征在于，所述光聚合单体选自壬基苯酚丙烯酸酯、乙氧化壬基苯酚丙烯酸酯、乙氧化丙氧化壬基苯酚丙烯酸酯...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩传龙，陈涛，汪喆，朱薛妍，张浙南，李伟杰，
申请(专利权)人：杭州福斯特电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：