表面处理剂制造技术

技术编号:43527405 阅读:22 留言:0更新日期:2024-12-03 12:14
本发明专利技术提供下述式(1)或(2)所示的硅烷化合物(各符号如说明书所记载)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及表面处理剂


技术介绍

1、已知某些种类的硅烷化合物用于基材的表面处理时,能够提供优异的拨水拨油性(专利文献1)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2002-97192号公报


技术实现思路

1、专利技术所要解决的技术问题

2、虽然专利文献1所记载的硅烷化合物能够提供拨水拨油性优异的表面处理层,但仍需求能够提供摩擦耐久性更高的表面处理层的化合物。

3、本专利技术的目的在于提供能够形成摩擦耐久性优异的表面处理层的硅烷化合物。

4、用于解决技术问题的技术方案

5、本专利技术包括下述的方式。

6、[1]一种下述式(1)或(2)所示的硅烷化合物。

7、rs1α-xa-rhβ             (1)

8、rhγ-xa-rs2-xa-rhγ     (2)

9、[式中,

10、rs1分别独立地为r1-rs-sir22-,

1本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种下述式(1)或(2)所示的硅烷化合物,其特征在于:

2.如权利要求1所述的化合物,其特征在于:

3.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

4.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

5.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

6.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

7.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

8.如权利要求7所述的硅烷化合物,其特征在于:

9.如权利要求7所述的硅烷化合物,其特征在于:

10.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种下述式(1)或(2)所示的硅烷化合物,其特征在于:

2.如权利要求1所述的化合物,其特征在于:

3.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

4.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

5.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

6.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

7.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

8.如权利要求7所述的硅烷化合物,其特征在于:

9.如权利要求7所述的硅烷化合物,其特征在于:

10.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

11.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

12.如权利要求1所述的硅烷化合物,其特征在于:

13.一种表面处理剂,其特征在于:

14.一种表面处理剂,其特征在于:

15.如权利要求13或...

【专利技术属性】
技术研发人员:高野真也野村孝史尾形明俊久保田大贵
申请(专利权)人:大金工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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