用于清洁连续基材的系统和方法技术方案

技术编号:43516384 阅读:21 留言:0更新日期:2024-12-03 12:07
用于清洁连续基材的示例方法包括:从一个或多个喷嘴向该连续基材施加第一清洁流体的高压低流量喷射流,以从该连续基材去除颗粒物质;搅拌器,包括兆声波换能器或超声波换能器中的至少一者,并且被配置为将能量引导到该连续基材;以及吹干该连续基材。

【技术实现步骤摘要】


技术介绍

1、本公开内容总体上涉及干净纺织品的生产,更具体地涉及用于清洁连续基材的系统和方法

2、将基材清洁到适于清洁室应用的程度的常规系统和方法具有有限的生产量和/或有限的从基材去除颗粒物质的能力。例如,常规的系统和方法


技术实现思路

1、公开了用于清洁连续基材的系统和方法,基本上如至少一个附图所展示和所述,如权利要求中更完整地阐述的。

【技术保护点】

1.一种清洁连续基材的系统,所述系统包括:

2.如权利要求1所述的系统,进一步包括反射板,所述反射板设置在来自所述搅拌器的所述连续基材的相反的侧上,并且配置为将来自所述搅拌器的所述能量朝向所述连续基材反射。

3.如权利要求1所述的系统,其中,所述一个或多个高压喷嘴包括:

4.如权利要求1所述的系统,其中,所述一个或多个高压喷嘴配置为通过在所述连续基材的横向方向上的多个位置处使所述连续基材的一些部分移位来施加所述高压低流量喷射流,以产生用于引导喷射的所述第一清洁流体远离所述连续基材的波形。

5.如权利要求4所述的系统,其中,所述一个或多个高压...

【技术特征摘要】

1.一种清洁连续基材的系统,所述系统包括:

2.如权利要求1所述的系统,进一步包括反射板,所述反射板设置在来自所述搅拌器的所述连续基材的相反的侧上,并且配置为将来自所述搅拌器的所述能量朝向所述连续基材反射。

3.如权利要求1所述的系统,其中,所述一个或多个高压喷嘴包括:

4.如权利要求1所述的系统,其中,所述一个或多个高压喷嘴配置为通过在所述连续基材的横向方向上的多个位置处使所述连续基材的一些部分移位来施加所述高压低流量喷射流,以产生用于引导喷射的所述第一清洁流体远离所述连续基材的波形。

5.如权利要求4所述的系统,其中,所述一个或多个高压喷嘴配置为通过在沿着所述连续基材的长度的不同位置处在不同横向位置处使所述连续基材移位,来施加所述高压低流量喷射流。

6.如权利要求5所述的系统,进一步包括沿着所述连续基材的长度设置在所述不同位置之间的辊,以将所述连续基材行进到所述不同位置。

7.如权利要求1所述的系统,其中,所述连续基材的宽度在6英寸至12英寸之间。

8.如权利要求1所述的系统,其中,所述第一清洁流体包括去离子水。

9.如权利要求1所述的系统,其中,在施加所述高压低流量喷射流期间,所述连续基材没有被浸没。

10.如权利要求1所述的系统,进一步包括一个或多个低压喷嘴,所述一个或多个低压喷嘴具有低于所述一个或多个高压喷嘴的喷射压力,并且配置为在施加所述高压低流量喷...

【专利技术属性】
技术研发人员:格雷戈里·霍尔
申请(专利权)人:伊利诺斯工具制品有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1