量测装置及其相位调制器设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种量测装置，其包括用于调制输入辐射的相位调制器设备，相位调制器设备包括至少一个第一相位调制器。第一相位调制器包括：第一移动光栅，该第一移动光栅处于至少一种操作状态，用于衍射输入辐射并且使经衍射辐射的频率发生多普勒偏移；以及第一补偿光栅元件，包括节距，该节距被配置为补偿所述经衍射辐射的至少一个衍射阶的波长相关色散。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在光刻过程中将图案施加到衬底的方法和设备。本专利技术尤其涉及诸如对准传感器的量测装置以及用于这种量测装置的相位调制设备。

技术介绍

1、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(ic)的制造中。在那种情况下，图案形成装置(其替代地称为掩模或掩模版)可以用于产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。图案的转印通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分，并且包括所谓的扫描仪，其中通过将辐射束以给定方向(“扫描”方向)扫描图案来照射每个目标部分，同时同步地扫描与该方向平行或反平行的衬底。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底上。

2、在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要待在衬底上顺序形成的不同层。因此本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种量测装置，该量测装置包括用于调制输入辐射的相位调制器设备；

2.根据权利要求1所述的量测装置，其中，所述相位调制器设备能够操作为相对于由结构的测量产生的一对互补的信号携带衍射阶中的一个信号携带衍射阶将线性时间变化相位差引入到该一对互补的信号携带衍射阶中的另一个。

3.根据权利要求1或2所述的量测装置，其中，该量测装置是离轴量测装置，并且相位调制器设备能够操作为对一对离轴测量束中的仅一个测量束施加线性时间变化相位偏移。

4.根据权利要求1所述的量测装置，其中，该量测装置是外差量测装置，其中相位调制器设备能够操作为对由量测装置产生的参考束施加线性时...

【技术特征摘要】

1.一种量测装置，该量测装置包括用于调制输入辐射的相位调制器设备；

2.根据权利要求1所述的量测装置，其中，所述相位调制器设备能够操作为相对于由结构的测量产生的一对互补的信号携带衍射阶中的一个信号携带衍射阶将线性时间变化相位差引入到该一对互补的信号携带衍射阶中的另一个。

3.根据权利要求1或2所述的量测装置，其中，该量测装置是离轴量测装置，并且相位调制器设备能够操作为对一对离轴测量束中的仅一个测量束施加线性时间变化相位偏移。

4.根据权利要求1所述的量测装置，其中，该量测装置是外差量测装置，其中相位调制器设备能够操作为对由量测装置产生的参考束施加线性时间变化相位偏移。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的量测装置，其中，相位调制器设备位于量测装置的照射布置中。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的量测装置，其中，量测装置包括对准传感器。

7.根据权利要求6所述的量测装置，能够操作为根据由于所述线性时间变化相位偏移且在不相对于对准标记移动测量束的情况下的对准标记的测量来产生经调制对准信号。

8.根据权利要求6或7所述的量测装置，能够操作为使用静态测量束相对于对准标记测量在衬底平面的任一尺寸小于6μm的对准标记。

9.根据权利要求1所述的量测装置，其中相位调制器设备包括第一声光调制器，该第一声光调制器能够操作为提供第一移动光栅，该第一移动光栅为第一移动声光栅。

10.根据权利要求9所述的量测装置，其中第一声光调制器包括声光可调谐滤波器。

11.根据权利要求1、9、10中任一项所述的量测装置，其中，第一相位调制器包括第一光学布置，所述第一光学布置用于将所述至少一个衍射阶重新聚焦到所述第一补偿光栅元件。

12.根据权利要求1、9、10中任一项所述的量测装置，其中第一补偿光栅元件的光栅节距与第一移动光栅的节距相匹配，所述匹配补偿施加在第一移动光栅和第一补偿光栅元件之间的任何介入放大率。

13.根据权利要求1、9、10中任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·J·登鲍埃夫，S·R·胡伊斯曼，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：