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用于几何查询处理的通用遍历框架制造技术

技术编号:43499761 阅读:23 留言:0更新日期:2024-11-29 17:05
本发明专利技术公开了用于几何查询处理的通用遍历框架。本发明专利技术的一个实施例提出了一种用于处理几何查询的技术。该技术包括:确定在几何查询中指定的树结构和可配置参数集合,其中,该可配置参数集合包括一个或更多个查询基元和一个或更多个搜索例程。该技术还包括:执行遍历树结构并执行一个或更多个搜索例程以将所述一个或更多个查询基元与树结构中包括的第一组几何对象相匹配的一个或更多个操作。该技术还包括:生成对几何查询的响应,其中该响应包括第一组几何对象。

【技术实现步骤摘要】

本公开的实施例通常涉及计算机科学和分层数据结构,更具体地,涉及用于几何查询处理的通用遍历框架


技术介绍

1、光刻,或称光学光刻,是一种用于制造集成电路(ic)、微机电系统(mems)和其他微米级和纳米级半导体器件的工艺。光刻包括将几何图案从光学掩模转移到涂覆在衬底(诸如硅片)上的光敏材料薄层(称为光刻胶)上。当光刻胶通过掩模暴露于紫外线(uv)光时,几何图案被转移到衬底上。然后,可以使用蚀刻工艺去除基板上未受光刻胶保护的区域,以在基板中形成各种特征。

2、然而,随着现代半导体器件越来越多地包含更小、更密集封装的特征,传统的光刻技术无法准确地产生这些特征。更具体地,将特征的清晰图像从几何图案投影到硅片上的能力可能在物理上受到用于执行投影的光的波长、投影中使用的透镜的数值孔径、与投影相关联的聚焦深度、由相邻特征引起的光的散射或模糊和/或其他因素的限制。随着半导体器件内的特征尺寸不断缩小和密度不断增加,这些物理限制被接近或超过,这可能导致模糊、曝光不足、光学像差和/或其他类型的失真,这些失真可能对制造复杂性、总产量或最终半导体器件性能产生负面影响。本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于处理几何查询的计算机实现的方法,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中通过以下方式将所述一个或更多个查询基元与所述第一组几何对象相匹配:

3.根据权利要求2所述的计算机实现的方法,其中从所述一个或更多个节点检索所述第一组几何对象包括:

4.根据权利要求2所述的计算机实现的方法,其中所述一个或更多个搜索标准包括相交测试、距离测试或重叠测试中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中通过以下方式将所述一个或更多个查询基元与所述第一组几何对象相匹配:

6.根据权利要求5所述的计算机...

【技术特征摘要】

1.一种用于处理几何查询的计算机实现的方法,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中通过以下方式将所述一个或更多个查询基元与所述第一组几何对象相匹配:

3.根据权利要求2所述的计算机实现的方法,其中从所述一个或更多个节点检索所述第一组几何对象包括:

4.根据权利要求2所述的计算机实现的方法,其中所述一个或更多个搜索标准包括相交测试、距离测试或重叠测试中的至少一个。

5.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中通过以下方式将所述一个或更多个查询基元与所述第一组几何对象相匹配:

6.根据权利要求5所述的计算机实现的方法,其中所述一个或更多个过滤参数包括几何对象的定向、所述一个或更多个查询基元的定向或几何对象的类型中的至少一个。

7.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中所述树结构通过以下方式遍历:

8.根据权利要求7所述的计算机实现的方法,其中通过基于所述可配置参数集合中包括的一个或更多个过滤参数进一步从所述定序中过滤一个或更多个节点来遍历所述树结构。

9.根据权利要求7所述的计算机实现的方法,其中所述一个或更多个排序参数包括排序原点或距离度量中的至少一个。

10.根据权利要求1所述的计算机实现的方法,其中所述几何查询包括光线追踪查询、相交查询、最近邻查询或范围查询中的至少一个。

11.一个或更多个非暂时性计算机可读介质,其存储指令,当所述指令由一个或更多个处理器执行时,使所述一个或更多个处理器执行以下步骤:

12.根据权利要求11所述的一个或更多个非暂时性计算机可读介质...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·穆霍帕迪亚V·梅塔M·A·里特曼J·A·斯旺森I·瓦尔德V·K·辛格
申请(专利权)人:辉达公司
类型:发明
国别省市:

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