一种阻隔膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术提供了一种阻隔膜及其制备方法与应用，属于材料技术领域。该阻隔膜包括基层、设置在所述基层单侧或双侧表面上的阻隔层、以及设置在至少一侧所述阻隔层外表面上的有机层；其中，所述基层为聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚对苯二甲酸乙二酯薄膜和聚碳酸酯薄膜中的一种或多种，所述阻隔层为氧化硅薄膜，所述有机层为聚二甲基硅氧烷薄膜或有机硅氮烷薄膜中的一种或两种。本发明专利技术采用电感耦合等离子体增强化学气相沉积技术，在基层单侧或双侧表面上沉积氧化硅薄膜作为阻隔层，得到的氧化硅薄膜表面平整、均匀性好、致密性好；本发明专利技术的阻隔膜兼具优异的阻隔性和高透光率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料，具体涉及一种阻隔膜及其制备方法与应用。

技术介绍

1、柔性电子器件通常使用聚合物材料替代玻璃和金属，但因聚合物固有的多孔性，使得水蒸气透过率通常大于1g/(m2.day)，其本身不适合为器件提供足够的保护，因此薄膜封装技术近年来发展迅速。对于柔性薄膜太阳能电池，通常利用阻隔膜对器件进行封装，以减少外界水、氧的侵蚀，提高器件使用寿命。

2、薄膜封装技术的突破是柔性产业目前发展的关键。通过适当的真空沉积工艺在聚合物基材表面涂覆基本不渗透的无机层可以有效降低其渗透性，这种无机层通常为透明氧化物、氮化物或碳化物，当该层无缺陷时对水分和氧气不渗透。然而，缺陷是很难避免的，包括沉积过程中的缺陷(固有缺陷)和真空室中以及基材表面存在的杂质(外部缺陷)。因此，减少缺陷、提高薄膜致密性，得到高质量的沉积薄膜至关重要。另外，在提高阻隔性能的同时，作为封装用阻隔膜还需要保持对太阳光的高透过率。

3、现有技术中，阻隔膜大都采用多层结构，包括“无机/有机”以及“无机/无机”的多层堆叠路线。例如，中国申请专利cn111574715a中公开了本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阻隔膜，其特征在于，包括基层、设置在所述基层单侧或双侧表面上的阻隔层、以及设置在至少一侧所述阻隔层外表面上的有机层；

2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述氧化硅薄膜的密度在2.7-3.0g/cm3之间，表面粗糙度＜2.5nm，不均匀度＜2.5％，折射率在1.47-1.52之间，厚度为100-500nm，优选150-400nm。

3.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基层的厚度为50-150μm，透光率＞80％；优选地，所述基层的厚度为80-130μm，透光率＞85％。

4.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述有机层...

【技术特征摘要】

1.一种阻隔膜，其特征在于，包括基层、设置在所述基层单侧或双侧表面上的阻隔层、以及设置在至少一侧所述阻隔层外表面上的有机层；

2.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述氧化硅薄膜的密度在2.7-3.0g/cm3之间，表面粗糙度＜2.5nm，不均匀度＜2.5％，折射率在1.47-1.52之间，厚度为100-500nm，优选150-400nm。

3.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述基层的厚度为50-150μm，透光率＞80％；优选地，所述基层的厚度为80-130μm，透光率＞85％。

4.根据权利要求1所述的阻隔膜，其特征在于，所述有机层的厚度为2-15μm，优选5-10μm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜的水蒸气透过率＜5×10-4g/(m2·day)。

6.根据权利要求1-4任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈兰兰，孙小杰，任月庆，
申请(专利权)人：国家能源投资集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：