【技术实现步骤摘要】
本申请涉及中子散射，具体涉及一种中子散射样品环境装置。
技术介绍
1、中子散射技术是利用中子散射方法，研究物质的静态结构及微观动力学性质的手段。而样品在不同的环境下的性能和结构只有通过实验来进行验证后才能在特定的环境下使用，或者对新的研究的物质的样品在特定的环境下的性能和结构的探索。相关技术中，可以通过对样品进行温度的控制，使样品处于特定温度环境下，通过特定温度环境与中子散射技术结合来拓展物质科学研究空间；但是，目前的样品探测环境中，一般仅涉及样品的环境温度的调整，并不涉及综合环境温度以及特定偏振光环境，结合中子散射技术对样品进行探测的手段，导致对样品的探测场景受限。
技术实现思路
1、本申请主要解决的技术问题是相关技术中中子散射样品环境装置对样品进行探测的场景受限，难以满足多种实验条件下样品的数据收集。
2、为了解决上述技术问题，一种实施例中提供一种中子散射样品环境装置，包括样品舱、样品调节平台、温控装置和光学检测装置；
3、所述样品舱用于提供亚真空环境；
...【技术保护点】
1.一种中子散射样品环境装置，其特征在于，包括样品舱、样品调节平台、温控装置和光学检测装置；
2.如权利要求1所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述安装机构包括固定底座和调节底座；所述固定底座固定设置于所述调节底座下方；所述调节底座置于所述固定底座上方，且所述调节底座与所述样品台固定连接；所述固定底座上设置有至少三个支撑件，所述支撑件自所述固定底座的顶部凸出并为所述调节底座提供支撑，且所述支撑件中至少一个为可调支撑件，所述可调支撑件自所述固定底座的顶部凸出的高度可进行调节，以调整被支撑的所述调节底座的角度。
3.如权利要求2所述的中子散射...
【技术特征摘要】
1.一种中子散射样品环境装置，其特征在于，包括样品舱、样品调节平台、温控装置和光学检测装置；
2.如权利要求1所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述安装机构包括固定底座和调节底座；所述固定底座固定设置于所述调节底座下方；所述调节底座置于所述固定底座上方，且所述调节底座与所述样品台固定连接；所述固定底座上设置有至少三个支撑件，所述支撑件自所述固定底座的顶部凸出并为所述调节底座提供支撑，且所述支撑件中至少一个为可调支撑件，所述可调支撑件自所述固定底座的顶部凸出的高度可进行调节，以调整被支撑的所述调节底座的角度。
3.如权利要求2所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述可调支撑件包括螺纹调节件，所述螺纹调节件包括两个，所述螺纹调节件通过螺纹配合旋转设置于所述固定底座。
4.如权利要求3所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述支撑件还包括球形支撑件，所述球形支撑件固定于所述固定底座的顶部，所述球形支撑件的顶部为所述调节底座提供支撑。
5.如权利要求4所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述球形支撑件设置于所述固定底座的边缘区域；或，
6.如权利要求2所述的中子散射样品环境装置，其特征在于，所述温控模块包括半导体...
【专利技术属性】
技术研发人员：张俊佩，熊益明，高寒，李云飞，郑玉杰，童欣，
申请(专利权)人：中国科学院高能物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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