一种单片集成光电芯片及其制备方法与电池表面温度的测量方法技术

技术编号:43473977 阅读:26 留言:0更新日期:2024-11-27 13:13
本发明专利技术公开一种单片集成光电芯片及其制备方法与电池表面温度的测量方法,涉及半导体技术领域,单片集成光电芯片包括衬底,以及间隔集成在衬底上的发光二极管和光电探测器,光电探测器包括MQWs层以及与MQWs层连接的N电极和P电极,MQWs层包括交替层叠设置的InGaN层和GaN层。本发明专利技术提供的单片集成光电芯片,操作简便,可直接置于电池表面测量温度,对电池温度变化响应快,灵敏度高,可精确测定电池表面的温度,最小可分辨小于0.1℃的温度变化。此外,该单片集成光电芯片体积小,测试方式十分灵活,不仅能实现电池表面单点温度的检测,还可将多个单片集成光电芯片阵列排布在电池表面,完成电池表面温度分布的测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体,尤其涉及一种单片集成光电芯片及其制备方法与电池表面温度的测量方法


技术介绍

1、电池(例如锂离子电池等)作为最主要的储能元件,直接影响着许多电子设备的安全性和可靠性。然而,电池的外观温度变化会极大地影响其使用体验,比如潜在的热失控、低温下的性能下降和加速老化等,仍然阻碍着电池的进一步发展。为确保电池安全、高效、可靠地运行,监测其热状态对于安全保护、性能优化和健康管理至关重要。

2、因此,急需提供一种精度高的用于温度测量的设备。


技术实现思路

1、基于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种单片集成光电芯片及其制备方法与电池表面温度的测量方法,旨在提供一种精度高的用于温度测量的设备。

2、本专利技术的技术方案如下:

3、本专利技术的第一方面,提供一种单片集成光电芯片,其中,所述单片集成光电芯片包括衬底,以及间隔集成在所述衬底上的发光二极管和光电探测器,所述光电探测器包括mqws层以及与所述mqws层连接的n电极和p电极,所述mqws层包括交替层本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种单片集成光电芯片,其特征在于,所述单片集成光电芯片包括衬底,以及间隔集成在所述衬底上的发光二极管和光电探测器,所述光电探测器包括MQWs层以及与所述MQWs层连接的N电极和P电极,所述MQWs层包括交替层叠设置的InGaN层和GaN层。

2.根据权利要求1所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述发光二极管与所述光电探测器之间的间隙中填充有绝缘物质;

3.根据权利要求1所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述光电探测器还包括n-GaN层、p-GaN层和ITO层;所述n-GaN层、MQWs层、p-GaN层和ITO层依次层叠设置在所述衬底上,且所述n-GaN层贴...

【技术特征摘要】

1.一种单片集成光电芯片,其特征在于,所述单片集成光电芯片包括衬底,以及间隔集成在所述衬底上的发光二极管和光电探测器,所述光电探测器包括mqws层以及与所述mqws层连接的n电极和p电极,所述mqws层包括交替层叠设置的ingan层和gan层。

2.根据权利要求1所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述发光二极管与所述光电探测器之间的间隙中填充有绝缘物质;

3.根据权利要求1所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述光电探测器还包括n-gan层、p-gan层和ito层;所述n-gan层、mqws层、p-gan层和ito层依次层叠设置在所述衬底上,且所述n-gan层贴合所述衬底表面设置。

4.根据权利要求3所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述光电探测器还包括:

5.根据权利要求4所述的单片集成光电芯片,其特征在于,所述分布布拉格反射层包括交替...

【专利技术属性】
技术研发人员:李携曦杨鸿颖
申请(专利权)人:南方科技大学
类型:发明
国别省市:

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