一种活性炭及其除杂方法和在制备电子级硼酸中的应用技术

本发明专利技术公开了一种活性炭及其除杂方法和在制备电子级硼酸中的应用。本发明专利技术提供的活性炭的除杂方法包括以下步骤：S1、一级清洗：采用稀硫酸清洗活性炭原料并浸泡20～30h，得到一级活性炭；S2、二级清洗：采用超纯水清洗所述一级活性炭，得到二级活性炭和水洗液，所述水洗液的电导率≤10μS；S3、三级清洗：采用硼酸溶液清洗所述二级活性炭，得到除杂后的活性炭和硼酸洗液，所述硼酸洗液中的金属杂质总含量与所述硼酸溶液中的金属杂质总含量的差值≤30μg/L。本发明专利技术采用三级清洗的方式对活性炭原料进行除杂，得到的活性炭的金属杂质总含量低，将其用于电子级硼酸的制备工艺中具有良好的效果，尤其是能够实现良好的TOC去除效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于化学工艺，尤其涉及一种活性炭及其除杂方法和在制备电子级硼酸中的应用。

技术介绍

1、随着电子工业的快速发展，特别是半导体和集成电路制造技术的不断进步，对电子级化学品的纯度和质量要求越来越高。电子级硼酸作为关键的电子化学品之一，在电子器件的制造过程中扮演着至关重要的角色。电子级硼酸需要具备极高的纯度，杂质含量低，以满足电子工业对化学品的严格要求。

2、目前，电子级硼酸的主要有氧化中和法、电解法、重结晶法和萃取法等。其中，氧化中和法是一种易于操作、成本低且效率高的方法，但目前的氧化中和法得到的硼酸产品纯度较低，金属杂质、有机物杂质含量较高，尤其是总有机碳(toc)含量高，氧化中和法难以达到较好的toc去除效果。有研究提出采用活性炭进行吸附除杂，但是活性炭中含有大量的杂质，尤其是钙、镁含量较高，采用未经处理的活性炭难以达到较好的除杂效果。

技术实现思路

1、为了克服上述现有技术存在的至少一个问题，本专利技术的目的之一在于提供一种活性炭的除杂方法，通过特定的除杂步骤，能够得到纯度高、金属杂质本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种活性炭的除杂方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤S1中，所述活性炭为木质活性炭。

3.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤S2中，所述超纯水的电导率≤1μS；

4.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤S3中，所述金属杂质包括铜、钙、镁、锂、钠、钾、铝、铬、锰、铁、镍、锡、钛、钴、锌、砷、锆、银、镉、金、铅、汞、铟或铊中的至少一种。

5.权利要求1～4任一项所述的除杂方法得到的活性炭。

6.权利要求5所述的活性炭在制备电子级硼酸中的应用。

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【技术特征摘要】

1.一种活性炭的除杂方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤s1中，所述活性炭为木质活性炭。

3.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤s2中，所述超纯水的电导率≤1μs；

4.根据权利要求1所述的除杂方法，其特征在于，步骤s3中，所述金属杂质包括铜、钙、镁、锂、钠、钾、铝、铬、锰、铁、镍、锡、钛、钴、锌、砷、锆、银、镉、金、铅、汞、铟或铊中的至少一种。

5.权利要求1～4任一项所述的除杂方法得到的活性炭。

6.权利要求5所述的活性炭在制备电子级硼酸中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴楚明，唐浪浪，赖林清，龙全安，吴芳，罗爱平，
申请(专利权)人：广东芳源新材料集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：