【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
公开的实施方式涉及液供给系统、液处理装置和液供给方法。
技术介绍
1、以往，已知有使半导体晶片(以下，还称为晶片。)等基片用的处理液在循环管线中循环，并且经由从该循环管线分支的分支管线向处理部供给处理液的液处理装置。在该液处理装置的循环管线中，设置有从处理液除去异物的过滤器(参照专利文献1)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2019-41039号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、本专利技术提供能够抑制循环管线内的处理液被污染的技术。
3、用于解决技术问题的技术方案
4、本专利技术的一个方式的液供给系统包括罐体、循环管线、泵、过滤器、背压阀和控制部。罐体贮存处理液。循环管线将从上述罐体送出的上述处理液送回上述罐体。泵形成上述循环管线中的上述处理液的循环流。过滤器设置在上述循环管线的上述泵的下游侧。背压阀设置在上述循环管线的上述过滤器的下游侧。控制部控制各部。此外，上述控制部在...
【技术保护点】
1.一种液供给系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的液供给系统，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
4.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
5.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
6.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
7.如权利要求6所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
8.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
9.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种液供给系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的液供给系统，其特征在于：
3.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
4.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
5.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于：
6.如权利要求1或2所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
7.如权利要求6所述的液供给系统，其特征在于，还包括：
8.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
9.如权利要求7所述的液供给系统，其特征在于：
10.如权利要求9所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：长田创，小佐井一树，筱原和义，奥田胜也，盐川俊行，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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