等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够调节机差的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：高频电源；一对等离子体电极；和配置在一对等离子体电极与高频电源之间的匹配器，匹配器具有：高频供电线，能够从高频电源对其供给高频电功率；接地的接地线；与一个等离子体电极连接的第1负载线；与另一个等离子体电极连接的第2负载线；阻抗匹配电路，其与高频供电线、第1负载线、第2负载线及接地线连接，具有多个可变电抗元件；高频传感器，其设置在高频供电线，检测高频电功率；至少检测第1峰值的电压传感器，其中，第1峰值是第1负载线与接地线的电位差的峰值；和匹配器控制部，其被输入高频传感器、电压传感器的检测值而控制多个可变电抗元件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子体处理装置。

技术介绍

1、专利文献1公开了一种具有多个等离子体处理室单元的等离子体处理装置，该等离子体处理室单元包括：具有用于激发等离子体的电极的等离子体处理室；用于对所述电极供给高频电功率的高频电源；以及匹配电路，其具有输入端子和输出端子，在该输入端子连接所述高频电源，在所述输出端子连接所述电极，在这些输入输出端子之间连接接地电位部分，该匹配电路用于获得所述等离子体处理室与所述高频电源的阻抗匹配。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2002-143672号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、在一个方面，本专利技术提供能够调节机差的等离子体处理装置。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、为了解决上述技术问题，根据本专利技术的一个方式，提供一种等离子体处理装置，其包括：高频电源；一对等离子体电极；和配置在一对上述等离子体电极与上述高频电源之间的匹配器，上述匹配器具有：高频供电线，本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

5.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

7.如权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

8.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：

【技术特征摘要】

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：

3.如权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于：

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于：

5.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林健，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：