具有用于并行光学检测的可配置印刷光学路由的量测设备制造技术

本文中公开了涉及量测装置和相关联的方法的实施例，该量测装置和相关联的方法用于使用固定传感器(510，530，610)组件并行地对设置在基板(550，650)上的多个目标(例如，对准标记)进行成像，该固定传感器组件与可更换光学路由组件(520，620，720)相结合提供电气、光学和机械连接。可更换光学路由组件(520，620，720)允许目标对准标记以任何期望配置放置在现场。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种用于使用具有可配置光学路由的固定传感器来检测基板上的目标的量测装置和相关方法。

技术介绍

1、光刻装置是一种将期望图案施加到基板上、通常是施加到基板的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(ic)的制造。在这种情况下，图案化设备(其替代地称为掩模或掩模版)可以用于生成要在ic的个体层上形成的电路图案。该图案可以被转印到基板(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括部分、一个或若干管芯)上。图案的转印通常是经由成像到基板上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个基板将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括：所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束来扫描图案，同时平行于或反平行于该扫描方向同步地扫描目标部分，来照射每个目标部分。也可以通过将图案压印到基板上来将图案从图案化设备转印到基板。

2、在光刻操作期间，不同的处理步骤可能需要在基板上顺序形成不同的层。因此，可能需要以高精度相对于形成在其上的现有图案来定位基本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于对设置在基板上的多个目标进行成像的量测系统，所述量测系统包括：

2.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述基板还被配置为：被移动到第二位置，以不被定位于所述可更换路由组件下方。

3.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件包括波导或光耦合器。

4.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件被配置为允许所述多个路由元件被设置在所述可更换路由组件上的多个不同位置。

5.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件被配置为将光引导到所述多个路由元件，或者从所述多个路由元件引导光。>

6.根据权利...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于对设置在基板上的多个目标进行成像的量测系统，所述量测系统包括：

2.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述基板还被配置为：被移动到第二位置，以不被定位于所述可更换路由组件下方。

3.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件包括波导或光耦合器。

4.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件被配置为允许所述多个路由元件被设置在所述可更换路由组件上的多个不同位置。

5.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件被配置为将光引导到所述多个路由元件，或者从所述多个路由元件引导光。

6.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述系统被配置为使得所述多个目标被并行成像。

7.根据权利要求1所述的量测系统，其中所述可更换路由组件包括有源集成光子元件或无源集成光子元件。

8.一种用于对设置在基...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·J·A·伯克曼，F·阿尔佩贾尼，S·R·惠斯曼，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：