【技术实现步骤摘要】
本技术属于制备设备，尤其涉及一种光刻胶氟硅引发剂制备设备。
技术介绍
1、光刻胶引发剂是一种用于制备微电子器件的化学品，它主要作用是在光刻胶中引发化学反应，通过光阻覆盖层的刻蚀，让光刻胶具备了时序控制的特性，光刻胶引发剂有多种类型，一般可分为光敏剂和胶基础剂两大类，而氟硅常用作清洁剂和蚀刻剂，去除杂质和刻蚀硅片表面。
2、基于上述，本专利技术人发现，现有的光刻胶氟硅引发剂制备设备存在以下不足：
3、1、设备底部没有任何光刻胶引发剂的排出溅射盛接措施，容易导致光刻胶引发剂排出时溅射到地面上影响环境，不方便在设备底部加装溅射盛接措施；
4、2、旋转杆和旋转齿为一体式，无法根据实际情况来更换不同结构形式的旋转齿，不方便将旋转杆和旋转齿设置为分体式，并通过螺栓来实现拆装更换。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本技术提供一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，以解决现有的设备底部没有任何光刻胶引发剂的排出溅射盛接措施，容易导致光刻胶引发剂排出时溅射到地面上影响环境，...
【技术保护点】
1.一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，其特征在于：包括装置本体（1）；所述装置本体（1）设置有制备反应桶（2），制备反应桶（2）顶部外部圆周设置有带安装孔的环形板，制备反应桶（2）底部设置有漏斗，制备反应桶（2）的漏斗底部外部圆周开设有带螺纹的环形槽，制备反应桶（2）的环形槽上通过螺纹安装有上下方向的阀门，制备反应桶（2）底部外围环形阵列设置有三处上下方向的支撑杆，制备反应桶（2）的支撑杆之间底部设置有盛接圆板，制备反应桶（2）的盛接圆板顶部端面开设有盛接圆槽。
2.如权利要求1所述一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，其特征在于：所述制备反应桶（2）顶部通过螺栓安装...
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，其特征在于：包括装置本体（1）；所述装置本体（1）设置有制备反应桶（2），制备反应桶（2）顶部外部圆周设置有带安装孔的环形板，制备反应桶（2）底部设置有漏斗，制备反应桶（2）的漏斗底部外部圆周开设有带螺纹的环形槽，制备反应桶（2）的环形槽上通过螺纹安装有上下方向的阀门，制备反应桶（2）底部外围环形阵列设置有三处上下方向的支撑杆，制备反应桶（2）的支撑杆之间底部设置有盛接圆板，制备反应桶（2）的盛接圆板顶部端面开设有盛接圆槽。
2.如权利要求1所述一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，其特征在于：所述制备反应桶（2）顶部通过螺栓安装有防护封闭盖（3），防护封闭盖（3）底部外部圆周设置有带安装孔的环形板，防护封闭盖（3）中心开设有上下贯穿的轴承孔，防护封闭盖（3）顶部端面中间设置有带法兰的支撑筒，防护封闭盖（3）顶部端面左右两侧均设置有倾斜的加料筒，防护封闭盖（3）的加料筒顶部外部圆周开设有带螺纹的环形槽。
3.如权利要求2所述一种光刻胶氟硅引发剂制备设备，其特征在于：所述防护封闭盖（3）的环形槽上通过螺纹安装有料口封闭盖（4），料口封闭盖（4）内...
【专利技术属性】
技术研发人员：李宁，
申请(专利权)人：苏州汉希斯新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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