【技术实现步骤摘要】
本公开内容的实施方式涉及一种用于清洁真空系统的方法、用于在基板上真空沉积的方法、用于在基板上真空沉积的设备。本公开内容的实施方式特别涉及一种在有机发光二极管装置(organic light-emitting diode,oled)的制造中使用的方法与设备。
技术介绍
1、用于在基板上层沉积的技术包括(例如)热蒸发、物理气相沉积(physical vapordeposition,pvd)和化学气相沉积(chemical vapor deposition,cvd)。经涂布的基板可用于多种应用和多种
例如，经涂布的基板可以用于有机发光二极管(oled)装置的领域。oled可以用于制造电视屏幕、计算机监视器、移动电话、其它手持装置、及用于显示信息的类似装置。例如oled显示器的oled装置可以包括一层或多层有机材料位于都沉积在基板上的两个电极之间。
2、oled装置可以包括多个有机材料的堆叠，所述堆叠例如在工艺设备的真空腔室中蒸发。有机材料使用蒸发源通过荫罩掩模(shadow mask)以顺序的方式被沉积在基板上。真空腔室内...
【技术保护点】
1.一种用于清洁在制造OLED装置中使用的真空系统的方法，包括：
2.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
3.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
4.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁包含真空腔室的清洁。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁包含在沉积工艺期间使用的一个或多个掩模装置的清洁。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述方法是在所述真空系统或所述真空系统的部分的维护程序之后执行的。>
8.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种用于清洁在制造oled装置中使用的真空系统的方法，包括：
2.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
3.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
4.一种用于清洁真空系统的方法，包括：
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁包含真空腔室的清洁。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁包含在沉积工艺期间使用的一个或多个掩模装置的清洁。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的方法，其中所述方法是在所述真空系统或所述真空系统的部分的维护程序之后执行的。
8.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁使用纯氧或具有氮或氩的氧混合物的等离子。
9.根据权利要求1、2和4中任一项所述的方法，其中所述预清洁包含湿式化学清洁工艺。
10.根据权利要求2、3和4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁是在操作所述真空系统之前的最终清洁程序。
11.根据权利要求1、3和4中任一项所述的方法，其中所述预清洁是通过在大气和真空之间的所述压力的切换而在执行所述等离子体清洁的相同腔室中执行的。
12.根据权利要求1、2和4中任一项所述的方法，其中所述等离子体清洁是在10-5毫巴至10-8毫巴之间的真空压力下执行的。
13.根据权利要求2所述的方法，其中所述预清洁是在大气下执行的，并且所述等离子体清洁是在真空下执行的，并且其中所述预清洁是通过在大气和真空之间的所述压力的切换而在执行所述等离子体清洁的相同腔室中执行的。
14.一种用于在基板上进行真空沉积的方法，包括：
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述方法用于在基板上进行真空沉积以制造oled装置，并且所述材料是有机材料。
16.一种用于在基板上进行真空沉积的设备，包括：
17.一种用于在基板上进行真空沉积的设备，包括：
18.一种用于在基板上进行真空沉积的设备，包括：
19.一种用于在基板上进行真空沉积的设备，包括：
20.根据权利要求16-19中任一项所述的设备，其中所述设备用于在基板上进行真空沉积以制造oled装置。
21.根据权利要求16、17和18中任一项所述的设备，其中所述等离子体清洁使用纯氧或具有氮或氩的氧混合物的等离子。
22.根据权利要求17、18和19中任一项所述的设备，其中所述等离子体清洁是在操作所述真空系统之前的最终清洁程序。
23.根据权利要求16、18和19中任一项所述的设备，其中所述预清洁和所述等离子...
【专利技术属性】
技术研发人员：乔斯·曼纽尔·迭格斯坎波，斯特凡·凯勒，李宰源，安治高志，戴特尔·哈斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：
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