一种微造型集流体的制作方法技术

技术编号:43411666 阅读:17 留言:0更新日期:2024-11-22 17:48
本发明专利技术涉及一种微造型集流体的制作方法。该微造型集流体的制作方法,该方法包括以下步骤,获得集流体基材;基于所述集流体基材,获得其表面的凸起与凹陷;其中,所述凸起成行设置,所述凹陷同样成行设置,两者位于不同行,但相互间隔设置;所述凸起至距离最近的凹陷于横向上的距离设为F,于纵向上的距离设为E,所述E等于所述F;所述凸起的高度与所述凹陷的深度相同,均设为G,所述凸起外径与所述凹陷的外径相同,均设为H;该微造型集流体的制作方法,通过降低微造型集流体凹坑和凸台的横向、纵向间距,既没有降低极片的粘附力,解决了极片析锂问题,稍微提升了正极材料的克容量发挥。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于二次离子电池用集流体,具体涉及一种微造型集流体的制作方法


技术介绍

1、电池,比如锂离子、钠离子电池的正负极材料和集流体粘附力弱,影响电池的大电流充放电效率和寿命。电池完成循环测试后,正极材料从铝箔表面脱离,并且,负极材料也存在同样的问题。

2、专利号cn112808771a公开了一种技术方案,具体的,该专利技术公开了一种表面毛化集流体箔材的错位轧制方法,包括如下步骤:

3、步骤1:将表面光滑的两根轧辊分别架在数控车床上,使用激光毛化工艺在轧辊表面加工预定尺寸和分布位置的环形凸起,凸起设计方案见图1,其中1是轧辊1,2是轧辊2,3是箔材,h是轧辊凸起横向距离,实施例表明h是200um,st1、st1是轧辊的纵向距离,实施例表明st1是100um,st2是60~140um,d是凸起直径,实施例表明d是50um;

4、步骤2:将制作好的轧辊对组装在轧机上,调整两根轧辊的相对位置,使两根轧辊表面的环形凸起相互错开,再将箔材从两根轧辊的夹缝间穿过,施加轧制力在箔材上下表面形成不穿透凹坑构成的表面毛化结构,箔材表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种微造型集流体的制作方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,

2.根据权利要求1所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述凸起的高度与所述凹陷的深度相同,均设为G,所述凸起外径与所述凹陷的外径相同,均设为H。

3.根据权利要求2所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:E=F≤1.6*H。

4.根据权利要求3所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:E=F=1.0*H。

5.根据权利要求3所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸...

【技术特征摘要】

1.一种微造型集流体的制作方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,

2.根据权利要求1所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述凸起的高度与所述凹陷的深度相同,均设为g,所述凸起外径与所述凹陷的外径相同,均设为h。

3.根据权利要求2所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:e=f≤1.6*h。

4.根据权利要求3所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:e=f=1.0*h。

5.根据权利要求3所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:e=f=1.2*h。

6.根据权利要求3所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基材中的凸起与凹陷满足:e=f=1.4*h。

7.根据权利要求2所述的一种微造型集流体的制作方法,其特征在于:所述集流体基...

【专利技术属性】
技术研发人员:周素超
申请(专利权)人:荣烯新材北京科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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