【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光刻胶材料领域，具体涉及一种酪氨酸解氨酶突变体及其合成对羟基肉桂酸的应用。
技术介绍
1、光刻胶（photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。其被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。但中国内高端光刻胶仍然主要依赖进口，能生产光刻胶的企业较少。
2、聚对羟基苯乙烯在光刻胶技术中扮演着重要的角色。对羟基苯乙烯基高分子光阻剂已成为关键技术。发达国家用对羟基聚酰亚胺完全取代旧的热稳定性材料，以提升液晶显示档次，对羟基肉桂酸已经主导了国外液晶显示工业。在中国，对羟基肉桂酸应用于光刻胶领域已经成为光刻胶技术的核心难点。
3、对羟基肉桂酸可以在苯丙氨酸解氨酶和肉桂酸羟化酶的催化下由苯丙氨酸生成，也可以在酪氨酸解氨酶（tal）的催化下直接由酪氨酸生成，后者路线短，但由于酪氨酸解氨酶（tal）的活性较低且不耐受高底物浓度，因此效率不...
【技术保护点】
1.一种酪氨酸解氨酶突变体，其特征在于，所述酪氨酸解氨酶突变体是将SEQ ID NO:2所示氨基酸突变为G182I/E472Q。
2.编码权利要求1所述酪氨酸解氨酶突变体的基因，其特征在于，所述酪氨酸解氨酶突变体的基因如SEQ ID NO：3所示。
3.根据权利要求1所述的一种酪氨酸解氨酶突变体，其特征在于，将含有如权利要求2所述酪氨酸解氨酶突变体基因的质粒转化至大肠杆菌中，获得重组工程菌。
4.一种重组工程菌，其特征在于，表达如权利要求2所述酪氨酸解氨酶突变体基因。
5.根据权利要求4所述的重组工程菌，其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种酪氨酸解氨酶突变体，其特征在于，所述酪氨酸解氨酶突变体是将seq id no:2所示氨基酸突变为g182i/e472q。
2.编码权利要求1所述酪氨酸解氨酶突变体的基因，其特征在于，所述酪氨酸解氨酶突变体的基因如seq id no：3所示。
3.根据权利要求1所述的一种酪氨酸解氨酶突变体，其特征在于，将含有如权利要求2所述酪氨酸解氨酶突变体基因的质粒转化至大肠杆菌中，获得重组工程菌。
4.一种重组工程菌，其特征在于，表达如权利要求2所述酪氨酸解氨酶突变体基因。
5.根据权利要求4所述的重组工程菌，其特征在于，所述重组工程菌为大肠杆菌bl21(de3)。
6.一种酪氨酸解氨酶突变体合成对羟基肉桂酸的应用，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：高升，周志刚，刘倩敏，舒尚科，张琦，
申请(专利权)人：邦泰生物工程深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：
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