【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于痕量分析，尤其涉及一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法及应用。
技术介绍
1、敞开式质谱(ams)最早由cooks于2004年提出，可以在开放环境下实现直接样品分析，时间短，样本量少，样品预处理少。此后，解吸大气压光电离(dappi)、解吸电喷雾电离(desi)和实时直接分析(dart)等ams技术相继发展。目前较为常见的ams离子源采样装置主要是在2005年首次提出的纸张喷雾电离(paper spray ionization,psi)的基础上发展起来的。以固体材料为基底的电喷雾质谱技术称为固体基底电喷雾质谱(ssesi-ms)。常用的固体基底包括惰性材料，如木尖、碳纤维和玻璃。这些固体基底具有制备困难、吸附能力低、富集能力弱等缺点，难以实现对一种或一类结构相似的化合物的选择性吸附和检测。此外，当惰性材料作为固体基底时，具有较高的背景干扰和较差的抗基体干扰能力。因此，有必要开发新的分离电离元件，以减少干扰，提高检测灵敏度，以实现ams的进一步发展。
2、近年来，人们报道了几种固体基底表面改性技术，如c18...
【技术保护点】
1.一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，包括如下三个步骤：
2.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，所述制备静电纺丝溶液包括如下三个步骤：
3.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，采用静电纺丝工艺在导电基底上进行静电纺丝纳米纤维的制备得到纳米纤维包裹的导电基底包括：
4.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，所述对所述纳米纤维包裹的导电基底进行去除模板分子组胺处理，包括：用甲醇溶液反复洗涤纳米纤维
【技术特征摘要】
1.一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，包括如下三个步骤：
2.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，所述制备静电纺丝溶液包括如下三个步骤：
3.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，采用静电纺丝工艺在导电基底上进行静电纺丝纳米纤维的制备得到纳米纤维包裹的导电基底包括：
4.根据权利要求1所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，所述对所述纳米纤维包裹的导电基底进行去除模板分子组胺处理，包括：用甲醇溶液反复洗涤纳米纤维包裹的导电基底。
5.根据权利要求2所述的一种静电纺丝分子印迹分离电离元件的制备方法，其特征在于，所述高分子化合物溶液是聚乙烯醇水溶液，所述聚乙烯醇水溶液的浓度为10wt％，所述组胺与所述聚乙烯醇水溶液的比例为0.4mmol:30g。
6.根据权利要求3所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员：张峰，刘通，许秀丽，
申请(专利权)人：中国检验检疫科学研究院，
类型：发明
国别省市：
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