数字光刻术中用于裸晶位置改正的封装成像制造技术

可以在不对基板使用全面计量扫描的情况下识别基板封装上的裸晶的实际实体位置。相反地，可以使用一个或多个相机基于对准特征在封装的设计文件中的预期定位是基板来高效地定位任何对准特征的近似位置。然后，可以将相机移动到对准特征应该在的位置，并且可以捕捉图像，以确定对准特征的实际位置。然后，可以使用对准特征的这些实际位置来识别裸晶的坐标，以及裸晶在封装上的旋转和/或变化高度。可以使用来自设计文件的预期位置与实际实体位置之间的差异来调整针对数字光刻系统的指令，以补偿裸晶的错位。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开内容大体上关于光刻系统。更详细而言，本公开内容描述了用于在用数字光刻术沉积迹线(trace)之前改正封装中裸晶放置的相机系统。

技术介绍

1、数字光刻技术被广泛用于半导体器件的制造，如半导体器件、液晶显示器(lcd)和发光二极管(led)显示器的后端处理。例如，大面积的基板经常被用于制造液晶显示器或平板显示器，它们通常用于有源矩阵(active matrix)显示器，如计算机、触控面板设备、个人数字助理(pda)、蜂巢式电话、电视监视器和类似物。一般来说，平板显示器在每个像素处都包括夹在两个板子之间的一层液晶材料作为相变材料。当来自电源供应器的电源横跨或穿过液晶材料施加时，各像素位置处通过液晶材料的光量得到了控制(即选择性地调变)，从而使图像能够产生在显示器上。

2、传统的数字光刻系统利用可以利用一个或多个图像投影系统。每个图像投影系统被配置为将一个或多个写入光束投射到基板表面上的光刻胶层中。每个图像投影系统将一个或多个写入光束投射到基板的表面。一个图案(也称为掩模图案)通过由投影透镜系统投射的写入光束来写入到基板表面上的光刻胶层中。微光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种系统，包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个相机包括多个相机。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述第一操作进一步包括：

4.如权利要求3所述的系统，其中所述第一操作进一步包括：

5.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括机器手臂，所述机器手臂在所述第一半导体处理站与所述第二半导体处理站之间移动所述基板。

6.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括与所述一个或多个相机定位在一起的一个或多个位移传感器，所述一个或多个位移传感器被配置为测量所述一个或多个相机与所述一个或多个相机捕捉在所述第一位置处的所...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种系统，包括：

2.如权利要求1所述的系统，其中所述一个或多个相机包括多个相机。

3.如权利要求2所述的系统，其中所述第一操作进一步包括：

4.如权利要求3所述的系统，其中所述第一操作进一步包括：

5.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括机器手臂，所述机器手臂在所述第一半导体处理站与所述第二半导体处理站之间移动所述基板。

6.如权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括与所述一个或多个相机定位在一起的一个或多个位移传感器，所述一个或多个位移传感器被配置为测量所述一个或多个相机与所述一个或多个相机捕捉在所述第一位置处的所述多个裸晶的所述图像的所述位置处的所述基板之间的一距离。

7.如权利要求6所述的系统，其中所述第一操作进一步包括：

8.如权利要求1所述的系统，其中所述多个裸晶的所述第一位置与所述第二位置之间的所述差异是由将所述多个裸晶黏着在所述基板上时的错位造成的。

9.一个或多个包括指令的非暂时性计算机可读取媒体，所述指令当由一个或多个处理器执行时，导致所述一个或多个处理器执行包括以下步骤的操作：

10.如权利要求9所述的所述一个或多个非暂时性计算机可读取媒体，其中所述第一位置包括所述多个裸晶上的对准特征的预期位置。

11.如权利要求10所述的所述一个或多个非暂时性计算机可读取媒体，其中所述第二位置包括在被安装在基板上之后的所述多个裸晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌尔里希·穆勒，王修仁，郭士豪，建峰·陈，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：