本申请提供一种用于检测待测样品表面状态的装置及其检测方法、化学机械研磨设备，用于检测待测样品表面状态的装置包括光源组件、第一凹球面镜、第二凹球面镜以及光学传感器，其中光源组件从第一凹球面镜的第一入射焦点上发射多条出射角度不同的光线，待测样品位于第一凹球面镜的第一出射焦点，第二凹球面镜的第二入射焦点与第一出射焦点重合，光学传感器位于第二凹球面镜的第二出射焦点上。通过发射多条出射角度不同的光线，并通过第一凹球面镜入射至待测样品上，使得用于检测待测样品表面状态的光线具有多个入射角度，进而产生具有多个强度变化的反射光线，相较于单一入射角度的光线，可减小测量误差。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
PCT国内申请，权利要求书已公开。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
pct国内申请，权...
【专利技术属性】
技术研发人员：高瑞彦，王海峰，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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