一种形状记忆微透镜阵列及多通道的非接触式光控开关制造技术

本发明专利技术属于光学器件领域，具体涉及一种形状记忆微透镜阵列及多通道的非接触式光控开关。MLA的制备方法包括：一、通过飞秒激光加工和化学蚀刻的方法制备凹面MLA模板；二、将环氧基树脂与固化剂按比例混合，抽真空后得到透明SMP材料；三、将透明SMP材料覆盖到凹面MLA模板，固化处理并脱模，得到形状记忆MLA。多通道的非接触式光控开关包括：光控盒、激光器、透镜阵列、激光扩束器、光敏阵列、位移机构、压平机构、温控机构，以及控制器。激光器出射的激光经激光扩束器扩束和透镜阵列聚焦后，达到光敏阵列中光开关的启动阈值；因而可以通过改变透镜阵列的形态调整光开关的开关状态。本发明专利技术解决现有MLA制造难度大，成本高，应用价值有限的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学器件领域，具体涉及一种形状记忆微透镜阵列以及多通道的非接触式光控开关。

技术介绍

1、由数百个微透镜组成的微透镜阵列(mla)是一种典型的小尺寸、高集成度的光学元件。迄今为止，mla已经在光学成像、红外制导和光学传感等领域得到了广泛的应用，在一些先进的光学系统中，mla通常在实现其先进的光学性能方面起着至关重要的作用。mla的每个微透镜单元独立运行并作为一个整体工作，从而实现光操纵、光学相位调制、分辨率提高和像差校正。近年来，微/纳米加工技术的进步推动了微型光学器件制造方法的快速发展。通过先进的增材和减材制造技术，可以成功地制造出各种类型的mla。

2、为了利用微透镜阵列实现可调节的成像能力，部分技术人员将更多的功能组件集成到mla中，这些组件可以实现机械变形或调整电/光场，但这也增加了系统的尺寸和复杂性。另外一些技术人员通过改变介质溶液ph等策略来改变mla的折射率。但这些方法仍然存在功耗高、刚体不可变形、系统结构较大且复杂、焦距可调性有限等问题。另外，智能材料与微透镜结构的结合能够带来明显的优势，包括可编程变形、远程操作和本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种形状记忆微透镜阵列，其特征在于，其由形状记忆聚合物SMP制备而成，制备方法包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：所述飞秒激光加工系统的光源为1030nm飞秒激光，加工过程中，脉冲持续时间为100fs、重复频率为100kHz。

3.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：步骤(2)中化学蚀刻后的石英分别进行清洁和干燥，得到所需的凹面MLA模板。

4.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：步骤(3)中，用于制备透明形状记忆材料的组分包括环氧树脂E51与环氧树脂固化剂D230，二者的质量比为3:1...

【技术特征摘要】

1.一种形状记忆微透镜阵列，其特征在于，其由形状记忆聚合物smp制备而成，制备方法包括如下步骤：

2.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：所述飞秒激光加工系统的光源为1030nm飞秒激光，加工过程中，脉冲持续时间为100fs、重复频率为100khz。

3.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：步骤(2)中化学蚀刻后的石英分别进行清洁和干燥，得到所需的凹面mla模板。

4.如权利要求1所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：步骤(3)中，用于制备透明形状记忆材料的组分包括环氧树脂e51与环氧树脂固化剂d230，二者的质量比为3:1。

5.如权利要求4所述的形状记忆微透镜阵列，其特征在于：步骤三中，形状记忆微透镜阵列在无尘环境中完成重构过程。

6.一种多通道的非接触式光控开关，其特征在于：其包括：

7.如权利要求6所述的多通道的非接触式光控开关，其特征在于：所述光敏阵列中每个光敏单元作为一个独立的光开关，所述激...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴思竹，曾露，劳召欣，张亚超，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：