样品托制造技术

本技术公开了一种样品托，其包括托盘、多个压片和对位槽；所述托盘上设有多个用于放置样品的样品槽；多个压片设于所述托盘上，每个所述样品槽至少对应设有一个所述压片，所述压片用于限制所述样品槽中的样品移动；对位槽设于所述托盘上，所述对位槽具有沿预定方向直线延伸的槽边。本技术提供的样品托，通过在托盘上设置多个样品槽，多样品槽设计允许同时放置多个样品，显著提高加工效率，并减少因重复操作而导致的误差；压片的可调节设计和对位槽的精确对准功能，确保样品在加工过程中的稳定性和一致性，从而提高加工质量。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于样品载具，具体涉及一种样品托。

技术介绍

1、在半导体和其他先进材料的制造领域，确保在实验制备过程中各个样品之间保持高度的一致性是至关重要的。器件的一致性对性能参数的稳定性、可靠性以及最终产品的性能具有决定性影响。尤其是在超导电子学、光电子学及纳米科技等领域，微小的加工变异都可能导致器件性能的显著差异。为此，实验条件的精确控制和样品加工工艺的严格一致性成为这些技术研究和工业应用中的一个基本要求。

2、现有的加工工艺往往涉及多个样品在完全相同的环境和条件下进行处理。由于在实验或生产过程中可能需要多次进行相同的加工步骤，因此如何保证每次加工的一致性，减少实验误差，是一个技术上需要解决的问题。目前，在进行这些实验时，一种常见的做法是使用单样品托来单独放置每个衬底，并对每片衬底使用相同的加工参数。然而，这种方法具有一些显著的不足。

3、然而，这种处理方法需要实验者重复操作多次，为每片衬底重置加工条件，这不仅增加了实验的操作难度，而且在每次重复过程中，环境条件的微小变化都可能引入新的变异因素，从而影响到最终器件的一致性。此外，由于每本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种样品托，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述托盘呈平板状，所述托盘具有一平坦的承载面，所述样品槽凹设于所述承载面上。

3.根据权利要求2所述的样品托，其特征在于，所述托盘的厚度为5～15mm，所述样品槽的深度为0.5mm。

4.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述样品槽呈圆形，所述样品槽的直径为30～60mm。

5.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述压片通过螺丝螺接于所述托盘上，所述压片上设有供所述螺丝穿过的通孔。

6.根据权利要求5所述的样品托，其特征在于，所述螺丝未旋...

【技术特征摘要】

1.一种样品托，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述托盘呈平板状，所述托盘具有一平坦的承载面，所述样品槽凹设于所述承载面上。

3.根据权利要求2所述的样品托，其特征在于，所述托盘的厚度为5～15mm，所述样品槽的深度为0.5mm。

4.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述样品槽呈圆形，所述样品槽的直径为30～60mm。

5.根据权利要求1所述的样品托，其特征在于，所述压片通过螺丝螺接于所述托盘上，所述压片上设有供所述螺丝穿过的通孔。

6.根据权利要求5所述的样品托，其特征在于，所述螺丝未旋紧时，所述压...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宏伟，陈懿尧，徐轶君，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：新型
国别省市：