【技术实现步骤摘要】
本公开内容涉及经涂覆的基材，更具体来说，涉及基材涂覆方法。
技术介绍
1、覆盖制品(其可以包括基于玻璃的基材)常常用于保护电子产品内的关键器件，用于提供用户界面进行输入和/或显示，和/或提供许多其它功能。此类产品包括移动装置，例如智能手机、智能手表和平板电脑。覆盖制品还包括建筑制品，运输制品(例如，用于车辆应用、火车、飞行器、船舶等的制品)，电器制品，或者需要部分透明度、耐划痕性、耐磨损性或其组合的任意制品。这些应用常常要求耐划痕性以及最大透光性和最小反射性方面的牢靠光学性能特性。可以将涂层施涂到基材以增强它们的光学或机械性质。涂层的表面粗糙度至少会对这些性质具有影响。因此，在行业中需要具有减小的粗糙度的改良涂覆覆盖制品及其制造方法。
技术实现思路
1、根据一个或多个实施方式，基材的涂覆方法可以包括：在基材的第一表面上沉积光学涂层，其中，光学涂层具有至少1nm的表面粗糙度(ra)；对光学涂层进行抛光从而将光学涂层的表面粗糙度降低至0.75nm或更小；以及在光学涂层上方沉积顶涂层来形成经涂覆...
【技术保护点】
1.一种对基材进行涂覆的方法，该方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其中，顶涂层包括氟化硅烷。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中，顶涂层的厚度是6nm至13nm。
4.如权利要求1至3所述的方法，其中，抛光使得光学涂层的厚度减小了1nm至20nm。
5.如权利要求1至3所述的方法，其中，抛光使得光学涂层的厚度减小了5nm至8nm。
6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，基材在400nm至700nm的波长上展现出约85％或更大的平均透光率。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其...
【技术特征摘要】
1.一种对基材进行涂覆的方法，该方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，其中，顶涂层包括氟化硅烷。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中，顶涂层的厚度是6nm至13nm。
4.如权利要求1至3所述的方法，其中，抛光使得光学涂层的厚度减小了1nm至20nm。
5.如权利要求1至3所述的方法，其中，抛光使得光学涂层的厚度减小了5nm至8nm。
6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，基材在400nm至700nm的波长上展现出约85％或更大的平均透光率。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，基材对于裸眼是光学透澈的。
8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，基材是基于玻璃的基材。
9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，基材是玻璃陶瓷。
10.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，基材是碱性铝硅酸盐玻璃。
11.如权利要求1至10中任一项所述的制品，其中，光学涂层包含耐划痕层。
12.如权利要求1至11中任一项所述的方法，其中，光学涂层包括高折射率与低折射率的交替层。
13.如权利要求1至12中任一项所述的方法，其中，光学涂层包括以下一种或多种：sio2、al2o3、geo2、sio、aloxny、aln、sinx、sioxny...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈㯏，柳锡运，吕志原，倪萍，张宇，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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