【技术实现步骤摘要】
本申请属于金属氧化物纳米层制备，具体涉及金属氧化物纳米层的制备方法、金属氧化物纳米叠层结构及传感器。
技术介绍
1、随着科技的发展，传感器得到越来越广泛的应用。在相关技术中，通常通过湿化学法和气相法制备金属氧化物纳米层，以制备得到传感器。但是，上述制备方法的操作复杂、反应条件苛刻，制备成本高。
技术实现思路
1、鉴于此，本申请第一方面提供了一种金属氧化物纳米层的制备方法，所述制备方法包括：
2、提供衬底与金属盐基材；
3、将金属盐基材设于所述衬底的表面，形成设于所述衬底一侧的金属盐层；
4、采用聚焦离子束对所述金属盐层进行曝光，使所述金属盐层转化为金属氧化物纳米层。
5、其中，所述金属盐层包括待曝光区与非曝光区，在采用所述聚焦离子束对所述金属盐层进行曝光的步骤包括：
6、对所述待曝光区的金属盐层进行曝光，以使所述待曝光区的金属盐层转化为所述金属氧化物纳米层，得到待处理叠层结构；
7、将所述待处理叠层结构浸泡于处理溶液，...
【技术保护点】
1.一种金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.如权利要求1所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，所述金属盐层包括待曝光区与非曝光区，在采用所述聚焦离子束对所述金属盐层进行曝光的步骤包括：
3.如权利要求2所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，在所述待处理叠层结构浸泡于处理溶液的步骤之后，所述非曝光区的金属盐层溶解，且露出对应所述非曝光区的衬底。
4.如权利要求2所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，在去除所述非曝光区的金属盐层的步骤之后，还包括：
5.如权利要求1所述的金...
【技术特征摘要】
1.一种金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
2.如权利要求1所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，所述金属盐层包括待曝光区与非曝光区，在采用所述聚焦离子束对所述金属盐层进行曝光的步骤包括：
3.如权利要求2所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，在所述待处理叠层结构浸泡于处理溶液的步骤之后，所述非曝光区的金属盐层溶解，且露出对应所述非曝光区的衬底。
4.如权利要求2所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，在去除所述非曝光区的金属盐层的步骤之后，还包括：
5.如权利要求1所述的金属氧化物纳米层的制备方法，其特征在于，所述金属氧化物纳米层还包括掺杂元素，所述掺杂元素选自过渡元素中的至少一种。
6.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭登极，杨彦东，廖健翔，刘聪，钟伟威，肖惠，顾鸿玮，许佼，王序进，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：发明
国别省市：
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