【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种光学设备，特别是用于光刻系统的光学设备，该光学设备具有包括至少一个光学表面的至少一个光学元件，并且具有用于使光学元件的光学表面倾斜的一个或多个致动器，并且具有用于感测光学表面从静止位置的倾斜的测量装置。本专利技术还涉及一种用于测量光学元件(特别是光刻系统的光学元件)的光学表面的实际倾斜的方法，其中光学表面的实际倾斜由沿着测量部分传播的至少一个测量光束确定，其中一个或多个致动器被布置成影响光学表面的倾斜。此外，本专利技术涉及一种光刻系统，特别是用于半导体光刻的投射曝光设备，其具有照明系统，该照明系统具有辐射源和光学单元，该光学单元包括至少一个光学元件。
技术介绍
1、用于在投射曝光设备中引导和成形辐射的光学元件从现有技术中是已知的。在已知的光学元件中，光学元件的光学表面经常引导和成形入射在所述光学元件上的光波。因此，为了形成具有期望特性的准确且精确对准的波前，表面对准或倾斜的精确控制是特别有利的。
2、现有技术已经公开了将光学元件集成在光学设备中的实践，光学设备包括用于产生力的致动器，以便以有针对性的方式倾斜...
【技术保护点】
1.一种光学设备(1)，特别是用于光刻系统(100、200)，具有包括至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2)，并且具有用于倾斜所述光学元件(2)的所述光学表面(3)的一个或多个致动器(4)，并且具有用于感测所述光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)，
2.根据权利要求1所述的光学设备(1)，
3.根据权利要求1或2所述的光学设备(1)，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学设备(1)，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学设备(1)，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备(1)
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学设备(1)，特别是用于光刻系统(100、200)，具有包括至少一个光学表面(3)的至少一个光学元件(2)，并且具有用于倾斜所述光学元件(2)的所述光学表面(3)的一个或多个致动器(4)，并且具有用于感测所述光学表面(3)从静止位置的倾斜的测量装置(5)，
2.根据权利要求1所述的光学设备(1)，
3.根据权利要求1或2所述的光学设备(1)，
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学设备(1)，
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学设备(1)，
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备(1)，
7.根据权利要求5或6所述的光学设备(1)，
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学设备(1)，
9.根据权利要求8所述的光学设备(1)，
10.根据权利要求1至9中任一项所述的光学设备(1)，
11.根据权利要求8、9或10所述的光学设备(1)，
12.根据权利要求7至11中任一项所述的光学设备(1)，
13.根据权利要求7至12中任一项所述的光学设备(1)，
14.根据权利要求8至13中任一项所述的光学设备(1)，
15.根据权利要求1至14中任一项所述的光学设备(1)，
16.根据权利要求1至15中任一项所述的光学设备(1)，
17.根据权利要求1至16中任一项所述的光学设备(1)，
18.根据权利要求15至17中任一项所述的光学设备(1)，
19.根据权利要求1至18中任一项所述的光学设备(1)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：H·兹维克，T·哈特，M·希伦布兰德，S·里克特，R·阿梅林，F·哈克，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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