供料器制造技术

供料器具备：带引导件、第一磁铁及第二磁铁。带引导件对收容元件的载带的输送进行引导。第一磁铁设置在由带引导件引导的载带的下方，具备能够在设置于比从载带拾取元件的拾取区域靠载带的输送方向上的上游侧的上游侧区域对元件施加第一吸引力的第一磁通密度。第二磁铁在载带的输送方向上与第一磁铁相邻地设置，具备能够在拾取区域中向元件施加比第一吸引力弱的第二吸引力的第二磁通密度。第一磁通密度及第二磁通密度被设定成预定的关系，使得在上游侧区域中元件的收容姿势稳定且在拾取区域中不会阻碍元件的拾取。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本说明书公开与供料器相关的技术。

技术介绍

1、专利文献1所记载的带式供料器具备在框架部件的上表面沿着带进给方向设置的槽状部。在槽状部内设置有带磁铁的下支撑部件，该带磁铁的下支撑部件构成为使基部及安装有磁铁部件的板簧部件这两个部件在上下方向上相向。带磁铁的下支撑部件对载带从下表面侧进行下支撑，并且通过磁铁部件的磁力而使收容于元件收容袋内的电子元件的姿势稳定。

2、专利文献2所记载的带式供料器具备带下支撑部件。在带下支撑部件的下方设有吸附位置侧磁铁（第一磁铁部件）和狭缝侧磁铁（第二磁铁部件）。吸附位置侧磁铁利用磁力将位于元件供给位置的元件向下支撑部件侧（下方）吸引。狭缝侧磁铁具有比吸附位置侧磁铁大的磁力，利用比吸附位置侧磁铁大的磁力将位于狭缝的下方的部件向下支撑部件侧（下方）吸引。

3、现有技术文献

4、专利文献1：日本特开2007-027246号公报

5、专利文献2：日本特开2017-139367号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种供料器，具备：

2.根据权利要求1所述的供料器，其中，

3.根据权利要求1或2所述的供料器，其中，

4.根据权利要求3所述的供料器，其中，

5.根据权利要求1所述的供料器，其中，

6.根据权利要求1所述的供料器，其中，

7.根据权利要求1所述的供料器，其中，

8.根据权利要求1所述的供料器，其中，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种供料器，具备：

2.根据权利要求1所述的供料器，其中，

3.根据权利要求1或2所述的供料器，其中，

4.根据权利要求3所述的供料器，其中，

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【专利技术属性】
技术研发人员：村濑浩规，
申请(专利权)人：株式会社富士，
类型：发明
国别省市：