玻璃壳体的制备方法、玻璃壳体、刻蚀液及电子设备技术

本申请提供一种玻璃壳体的制备方法、玻璃壳体、刻蚀液及电子设备。本申请的玻璃壳体的制备方法包括：提供玻璃基材；在所述玻璃基材的表面形成掩膜层，所述掩膜层具有镂空区；以及于刻蚀液中，对所述玻璃基材进行湿法刻蚀，以得到玻璃壳体，其中，所述刻蚀液包括氢氟酸、硫酸、磷酸及氨基磺酸，以使得进行湿法刻蚀时，所述掩膜层自邻近所述镂空区的边缘部分朝向背离所述镂空区的方向与所述玻璃基材逐渐剥离。本申请的制备方法可以用于制备具有沟壑状立体纹理结构的玻璃壳体。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子领域，具体涉及一种玻璃壳体的制备方法、玻璃壳体、刻蚀液及电子设备。

技术介绍

1、随着智能手机市场的激烈竞争，手机种类越来越向多元化、新颖化方向发展，新颖美观舒适的手机后壳外观成为手机行业的竞争热点，目前手机后盖玻璃往往采用酸蚀刻技术进行装饰处理，可实现后盖玻璃基体获得雾面朦胧的外观效果，提升手机后盖的外观视觉效果。然而，玻璃后盖的制备工艺难以制备预先设计的立体纹理结构，微观3d立体纹理的可设计性弱。

技术实现思路

1、针对上述问题，本申请实施例提供一种玻璃壳体的制备方法，其制得的玻璃壳体具有沟壑状的立体纹理结构。

2、本申请第一方面实施例提供了一种玻璃壳体的制备方法，其包括：

3、提供玻璃基材；

4、在所述玻璃基材的表面形成掩膜层，所述掩膜层具有镂空区；以及

5、于刻蚀液中，对所述玻璃基材进行湿法刻蚀，以得到玻璃壳体，其中，所述刻蚀液包括氢氟酸、硫酸、磷酸及氨基磺酸，以使得进行湿法刻蚀时，所述掩膜层自邻近所述镂空区的边缘部分朝向背离所述镂空区的方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种玻璃壳体的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，进行湿法刻蚀时，所述玻璃基材每分钟的刻蚀深度为s1，所述掩膜层与所述玻璃基材每分钟的剥离宽度为s2，其中，4≤s2/s1≤10。

3.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述玻璃基材的表面形成掩膜层，包括：

4.根据权利要求3所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述图案化层的重均分子量的范围：5000≤Mw≤8000。

5.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述掩膜层的原料组分包括对甲酚及间甲酚，所述间...

【技术特征摘要】

1.一种玻璃壳体的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，进行湿法刻蚀时，所述玻璃基材每分钟的刻蚀深度为s1，所述掩膜层与所述玻璃基材每分钟的剥离宽度为s2，其中，4≤s2/s1≤10。

3.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述玻璃基材的表面形成掩膜层，包括：

4.根据权利要求3所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述图案化层的重均分子量的范围：5000≤mw≤8000。

5.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述掩膜层的原料组分包括对甲酚及间甲酚，所述间甲酚与所述对甲酚的摩尔比的范围为0.9至1.5。

6.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液按质量分数计包括：

7.根据权利要求6所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液按质量分数计还包括：0.2％至0.5％的三氯化铁。

8.根据权利要求6或7所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述刻蚀液按质量分数计还包括：0.2％至0.5％的十二烷基苯磺酸钠。

9.根据权利要求1所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述于刻蚀液中，对所述玻璃基材进行湿法刻蚀，包括：

10.根据权利要求9所述的玻璃壳体的制备方法，其特征在于，所述进行摆动的摆动幅度的范围为400mm至500mm；所述进行摆动的摆动频率为30次/min至60次/min。

11.一种玻璃壳体，其特征在于，由权利要求1-10任一项所述的制备方法进行制备。

12.一种玻璃壳体，其特征在于，所述玻璃壳体包括本体部及多个凸出部，所述本体部具有第一表面，所述多个凸出部设置于所述本体部的所述第一表面，所述凸出部具有与所述第一表面相连的第二表面，所述第一表面与所述第二表面之间的角度大于90°，所述凸出部由玻璃基材经湿法刻蚀形成；所述玻璃壳体具有所述凸出部的表面的粗糙度ra的范...

【专利技术属性】
技术研发人员：敖玉银，杨啸，张涛，邱惊龙，郑俊威，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：