掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法技术

本发明专利技术提供一种掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法。该掩膜条，包括掩膜层，掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，掩膜层中开设有多个第一开口，第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；还包括张网图案层，位于掩膜层的第一侧面，张网图案层至少覆盖多个第一开口的第一分布区域；张网图案层中开设有多个凹槽或者多个第二开口，多个凹槽或者多个第二开口的第二分布区域覆盖第一分布区域；多个凹槽或者多个第二开口形状规则且均匀分布。该掩膜条张网精度确保，规避了因掩膜层中第一开口分辨率过高导致第一开口过小影响抓取精度、因掩膜层中第一开口排布间距不等导致无法张网、因掩膜层中第一开口形貌不规则导致张网对应困难的问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示领域，具体涉及一种掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法。

技术介绍

1、oled(organic light-emitting diode，有机发光二极管)显示屏以其自发光、功耗低、轻薄、可挠性、色彩绚丽、对比度高、响应速率快等优势，受到广泛的关注。

2、fmm(fine metal mask，精细金属掩膜板)作为oled显示屏制备过程中关键的一环，提升其制作精度和分辨率尤为重要。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法。该掩膜条确保了其张网精度，同时规避了因为掩膜层中第一开口分辨率过高导致第一开口过小影响抓取精度，或是因为掩膜层中第一开口排布间距不等导致无法张网，或是因为掩膜层中第一开口形貌不规则导致张网对应困难的问题。

2、本专利技术提供一种掩膜条，包括掩膜层，所述掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，所述掩膜层中开设有多个第一开口，所述第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；

3、还包括张网图案层，位于本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种掩膜条，包括掩膜层，所述掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，所述掩膜层中开设有多个第一开口，所述第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；

2.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述凹槽的深度大于或等于所述张网图案层的厚度的1/2，且小于所述张网图案层的厚度。

3.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述凹槽或者所述第二开口的开口尺寸范围为50～100μm。

4.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述多个凹槽或者所述多个第二开口在所述掩膜层上的正投影大小形状相同，

5.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述张网图案层...

【技术特征摘要】

1.一种掩膜条，包括掩膜层，所述掩膜层具有相对设置的第一侧面和第二侧面，所述掩膜层中开设有多个第一开口，所述第二侧面用于蒸镀有机发光材料层；

2.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述凹槽的深度大于或等于所述张网图案层的厚度的1/2，且小于所述张网图案层的厚度。

3.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述凹槽或者所述第二开口的开口尺寸范围为50～100μm。

4.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述多个凹槽或者所述多个第二开口在所述掩膜层上的正投影大小形状相同，

5.根据权利要求1所述的掩膜条，其特征在于，所述张网图案层...

【专利技术属性】
技术研发人员：王威，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：