光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品制造方法及图纸

技术编号:43333660 阅读:19 留言:0更新日期:2024-11-15 20:30
本发明专利技术提供了一种光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品,涉及光学技术领域,所述光场分布优化方法,包括:获取板上芯片封装COB光芯片的初始结构模型,初始结构模型用于指示COB光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的初始光场能量分布;获取初始光场能量分布和预设目标面上的预设光场能量分布之间的光场能量偏差;根据光场能量反馈算法LEFA和光场能量偏差,对初始结构模型进行优化,得到优化后的结构模型,优化后的结构模型用于指示COB光芯片的光场能量经过预设自由曲面映射到预设目标面的优化后的光场能量分布。本发明专利技术可以实现高均匀性的光场分布需求,且计算流程简单、计算速度快。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学,尤其是指一种光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品


技术介绍

1、随着半导体照明理论和相关技术的高速发展,目前半导体照明的光源芯片主要有单颗光源芯片和板上芯片封装(chips on board,cob)两种形式。相对于单颗光源芯片,cob光芯片具有热阻低、集成式封装面出光、空间占用小等优点,是目前照明光源芯片的主流趋势之一。越来越多的研究学者投入光场分布计算的研究工作,但是基于常规曲面的传统光场分布计算方法控制光场的自由度不足,针对cob光芯片的光场分布需要经过严格的光场计算,以实现高均匀性的光场分布需求。因此光场分布的高自由度是影响cob光芯片的均匀性的重要原因。

2、但目前,基于常规曲面的传统光场分布计算方法,难以实现高均匀性的光场分布需求,且计算流程复杂、计算速度缓慢。


技术实现思路

1、本专利技术技术方案的目的在于提供一种光场分布优化方法、装置、设备、存储介质和程序产品,用以解决现有的光场分布计算方法,难以实现高均匀性的光场分布需求,且计算流程复杂、计算速度本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光场分布优化方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光场能量包括光强和照度;

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据第一点光源的光强、所述第一点光源的照度、所述第一点光源经过所述预设自由曲面映射到所述预设目标面的尺寸、第一夹角和第二夹角,得到所述第一点光源的光场能量经过预设自由曲面映射到所述预设目标面上的映射区域的初始点光源映射光场能量,包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,获取所述初始光场分布和所述预设目标面上的预设光场能量分布之间的光场能量偏差,包括:

5.根据权利要求1所述的...

【技术特征摘要】

1.一种光场分布优化方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光场能量包括光强和照度;

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据第一点光源的光强、所述第一点光源的照度、所述第一点光源经过所述预设自由曲面映射到所述预设目标面的尺寸、第一夹角和第二夹角,得到所述第一点光源的光场能量经过预设自由曲面映射到所述预设目标面上的映射区域的初始点光源映射光场能量,包括:

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,获取所述初始光场分布和所述预设目标面上的预设光场能量分布之间的光场能量偏差,包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据光场能量反馈算法lefa和所述光场能量偏差,对所述初始结构模型进行优化,得到优化后的结构模型,包括:

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,根据所述映射区域的第一点光源映射光场能量、所述映射区域的第二点光源映射光场能量和所述映射区域的第三点光源映射光场能量,得到所...

【专利技术属性】
技术研发人员:程豪杰金蓄黄智国李明悦钱岭
申请(专利权)人:中移苏州软件技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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