一种用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法技术

技术编号:43327579 阅读:23 留言:0更新日期:2024-11-15 20:25
本发明专利技术属于环境治理领域,公开了一种用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法。垂直式干砌石挡墙墙身直立、缝隙较大、缺乏土壤,存在稳定性差,土壤和植物难以固着、保水能力弱等缺点。本发明专利技术针对现有干砌石挡墙苔藓覆绿技术中苔藓固着难、生长慢且效果差,其他植物无法自然定植等问题,利用具有特定的塑性指数和液性指数的生长基质,并选用遇水生长旺盛、耐旱性强的本地苔藓,通过特定的技术操作流程,使垂直式干砌石挡墙的稳定性、保水性及附着力能增加,促进干砌石挡墙的快速覆绿以及群落演替,同时为其他植物种子提供附着及生长条件,利于提高干砌石挡墙的生物多样性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及环境治理领域,具体涉及一种用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法


技术介绍

1、苔藓植物是自然界的拓荒者之一,具有很强的再生力和抗旱能力,能够吸收蓄积空气中的水分和粉尘颗粒等物质,死亡后分解还可形成适宜其他植物生存的土壤有机质,进而改善植被无法生长的环境。

2、现有公开的苔藓覆绿方法包括铺设苔藓生态毯和直接种植苔藓两种方法,针对坡度较大的表面,例如坡度较大的陡岩边坡,多采用直接种植苔藓的方法进行覆绿处理。但前述坡度较大的陡岩边坡,不仅稳定性低,苔藓也难以直接固定及生长,一般是先利用可种植苔藓的基质于陡岩边坡表面形成稳定的基质层,再种植苔藓进行覆绿。可见,陡岩边坡苔藓覆绿的重点在于对种植苔藓的基质层的固定和苔藓上墙处理两个过程。然而,现有的基质多为糊状浆液,通过喷涂的方式于陡岩边坡表面形成基质层,在不稳定因素和重力的影响下,基质层厚度较小且易于脱落,向基质中添加胶粘剂、加固液并结合固定条、无纺布等辅助固定方式,能够使基质层固定于陡岩边坡表面,但基质层的厚度一般也不超过3 cm,且坡度越大,基质层受重力的影响越大,若用于垂直式干砌石挡墙本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述生长基质原料包括水、有机肥、钠基膨润土和黏土,所述有机肥、钠基膨润土和黏土的混合比例为1:(0.5-1):(18-20)。

3.根据权利要求2所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述黏土中50%以上的颗粒粒径≤0.075 mm。

4.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第一次生长基质上墙处理为采用生长基质和片状块石填充于干砌石挡墙缝隙,并用尖头凿子辅助填满填实。

5.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第...

【技术特征摘要】

1.用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述生长基质原料包括水、有机肥、钠基膨润土和黏土,所述有机肥、钠基膨润土和黏土的混合比例为1:(0.5-1):(18-20)。

3.根据权利要求2所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述黏土中50%以上的颗粒粒径≤0.075 mm。

4.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第一次生长基质上墙处理为采用生长基质和片状块石填充于干砌石挡墙缝隙,并用尖头凿子辅助填满填实。

5.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第二次生长基质上墙...

【专利技术属性】
技术研发人员:补春兰涂卫国王彬黄一倪单婷倩苟小林樊华江羊洋罗雪梅李森罗海霞
申请(专利权)人:西南科技大学
类型:发明
国别省市:

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