【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及环境治理领域,具体涉及一种用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法。
技术介绍
1、苔藓植物是自然界的拓荒者之一,具有很强的再生力和抗旱能力,能够吸收蓄积空气中的水分和粉尘颗粒等物质,死亡后分解还可形成适宜其他植物生存的土壤有机质,进而改善植被无法生长的环境。
2、现有公开的苔藓覆绿方法包括铺设苔藓生态毯和直接种植苔藓两种方法,针对坡度较大的表面,例如坡度较大的陡岩边坡,多采用直接种植苔藓的方法进行覆绿处理。但前述坡度较大的陡岩边坡,不仅稳定性低,苔藓也难以直接固定及生长,一般是先利用可种植苔藓的基质于陡岩边坡表面形成稳定的基质层,再种植苔藓进行覆绿。可见,陡岩边坡苔藓覆绿的重点在于对种植苔藓的基质层的固定和苔藓上墙处理两个过程。然而,现有的基质多为糊状浆液,通过喷涂的方式于陡岩边坡表面形成基质层,在不稳定因素和重力的影响下,基质层厚度较小且易于脱落,向基质中添加胶粘剂、加固液并结合固定条、无纺布等辅助固定方式,能够使基质层固定于陡岩边坡表面,但基质层的厚度一般也不超过3 cm,且坡度越大,基质层受重力的影响越大,若
...【技术保护点】
1.用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述生长基质原料包括水、有机肥、钠基膨润土和黏土,所述有机肥、钠基膨润土和黏土的混合比例为1:(0.5-1):(18-20)。
3.根据权利要求2所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述黏土中50%以上的颗粒粒径≤0.075 mm。
4.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第一次生长基质上墙处理为采用生长基质和片状块石填充于干砌石挡墙缝隙,并用尖头凿子辅助填满填实。
5.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法
...【技术特征摘要】
1.用于垂直式干砌石挡墙的苔藓覆绿方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述生长基质原料包括水、有机肥、钠基膨润土和黏土,所述有机肥、钠基膨润土和黏土的混合比例为1:(0.5-1):(18-20)。
3.根据权利要求2所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述黏土中50%以上的颗粒粒径≤0.075 mm。
4.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第一次生长基质上墙处理为采用生长基质和片状块石填充于干砌石挡墙缝隙,并用尖头凿子辅助填满填实。
5.根据权利要求1所述的苔藓覆绿方法,其特征在于,所述第二次生长基质上墙...
【专利技术属性】
技术研发人员:补春兰,涂卫国,王彬,黄一倪,单婷倩,苟小林,樊华,江羊洋,罗雪梅,李森,罗海霞,
申请(专利权)人:西南科技大学,
类型:发明
国别省市:
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