一种石墨烯添加剂及高导石墨烯/铜复合材料的制备方法技术

技术编号:43322366 阅读:53 留言:0更新日期:2024-11-15 20:22
本发明专利技术涉及一种石墨烯添加剂及高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,石墨烯添加剂为还原氧化石墨烯或酞菁材料,酞菁材料为酞菁铝与酞菁钴的复合。在制备石墨烯分散液时加入一定量的石墨烯添加剂,然后将石墨烯分散液与成膜剂前驱体溶液混合,超声分散均匀得到涂镀液,将涂镀液在铜线表面涂镀,初步烘干后依次在鼓风干燥箱、真空干燥箱中干燥,然后在真空管式炉中热沉积,得到石墨烯/铜复合材料。本发明专利技术利用还原氧化石墨烯或酞菁材料在溶剂中的高分散性以及与石墨烯强烈的π‑π相互作用,有效地改善了石墨烯在溶剂中容易团聚导致的涂层表面翘曲严重以及涂层与铜基体结合力差的问题,提高了涂层结构的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于石墨烯金属复合材料的制备,具体涉及一种石墨烯添加剂及高导石墨烯/铜复合材料的制备方法


技术介绍

1、石墨烯因具有优异的电学、力学强度而被广泛研究,石墨烯/铜复合材料由于其优异的导电性、导热性和机械强度,在电子器件、散热材料和高强度导电材料等领域展现出广泛的应用潜力。现有的石墨烯/铜复合材料的制备技术主要集中在通过不同的方法将石墨烯均匀分散到铜基体中,以增强材料的导电性、导热性和机械性能。常见的制备方法包括机械混合法、粉末冶金法、电镀法和化学气相沉积(cvd)法等。这些方法各有优缺点,例如机械混合法操作简单,但石墨烯容易团聚;粉末冶金法可以实现较好的分散性,但工艺过程较为复杂;电镀法适用于制备薄膜型复合材料,但难以控制厚度和均匀性;cvd法能精确控制石墨烯的层数和质量,但设备要求高,成本较高。尽管现有技术已在提升石墨烯/铜复合材料的性能上取得了一定进展,但在实际应用中,如何进一步提高石墨烯在铜基体中或表面上的分散均匀性、改善界面结合力,以及降低生产成本,仍是亟待解决的问题。

2、将石墨烯分散于溶剂中形成分散液,使用表面涂覆的方法制本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种石墨烯添加剂,其特征在于,所述的石墨烯添加剂为还原氧化石墨烯或酞菁材料,所述的酞菁材料为酞菁铝与酞菁钴按照质量比为1:3~3:1的复合。

2.一种高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

3.如权利要求2所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的石墨烯添加剂为还原氧化石墨烯或酞菁材料,所述的酞菁材料为酞菁铝与酞菁钴按照质量比为1:3~3:1的复合。

4.如权利要求3所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,当石墨烯添加剂选用还原氧化石墨烯时,还原氧化石墨烯占石墨烯和还原氧化石墨烯总质量的1...

【技术特征摘要】

1.一种石墨烯添加剂,其特征在于,所述的石墨烯添加剂为还原氧化石墨烯或酞菁材料,所述的酞菁材料为酞菁铝与酞菁钴按照质量比为1:3~3:1的复合。

2.一种高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

3.如权利要求2所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的石墨烯添加剂为还原氧化石墨烯或酞菁材料,所述的酞菁材料为酞菁铝与酞菁钴按照质量比为1:3~3:1的复合。

4.如权利要求3所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,当石墨烯添加剂选用还原氧化石墨烯时,还原氧化石墨烯占石墨烯和还原氧化石墨烯总质量的10~50%,且石墨烯和还原氧化石墨烯在混合溶剂a中的总浓度为1.5~30 mg/ml。

5.如权利要求3所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,当石墨烯添加剂选用酞菁材料时,石墨烯在混合溶剂a中的浓度为1.5~30 mg/ml,酞菁材料在混合溶剂a中的浓度为1~10 mg/ml。

6.如权利要求2所述的高导石墨烯/铜复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述异丙醇、n-n...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡浩程浩艳宋克兴王玉喆皇涛
申请(专利权)人:河南科技大学
类型:发明
国别省市:

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