一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质制造方法及图纸

技术编号:43314487 阅读:17 留言:0更新日期:2024-11-15 20:16
本申请涉及一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质,其中,该版图处理方法包括:通过获取版图信息,版图信息包括多个模块和多个模块的调用信息;基于调用信息,对多个模块进行排序,得到排序结果;遍历获取每个模块的模块信息;根据排序结果,依次遍历多个模块进行打平处理,获得处理结果;其中,打平处理包括:获取被模块调用的子模块及调用信息,基于调用信息对子模块的模块信息进行变换处理,获得变换结果;将变换结果添加至模块的模块信息进行更新。通过对被调用模块进行偏移的方式对版图进行打平处理,减少了打平处理过程中的数据量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及集成电路设计领域,特别是涉及一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质


技术介绍

1、集成电路领域的eda(electronic design automation)工具对于图层间布尔运算操作或者drc(design rule check)检查时采用打平(flattern)模式进行处理,因此在实际的图形操作中常需要将hierarchy层级进行打平以获得图形间的相关联系,即需要对版图图层进行快速打平处理。

2、但是在现有技术的超大规模集成电路设计中,对版图数据文件进行打平的常见方式以循环递归为主,但是此方式存在大量的重复计算,导致打平处理过程中的数据量较多。

3、针对相关技术中存在版图打平处理过程中的数据量较多的问题,目前还没有提出有效的解决方案。


技术实现思路

1、在本实施例中提供了一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质,以解决相关技术中版图打平处理过程中的数据量较多的问题。

2、第一个方面,在本实施例中提供了一种版图处理方法,所述方法包括:

3本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种版图处理方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述模块信息包括所述模块内的基础图素,以及所述基础图素对应的偏移信息;

3.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,将所述变换结果添加至所述模块的模块信息进行更新,包括:

4.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述获得处理结果,包括:

5.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述遍历获取每个模块的模块信息,包括:

6.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,所述调用信息包括子模块的位置信息,以及对...

【技术特征摘要】

1.一种版图处理方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述模块信息包括所述模块内的基础图素,以及所述基础图素对应的偏移信息;

3.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,将所述变换结果添加至所述模块的模块信息进行更新,包括:

4.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述获得处理结果,包括:

5.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述遍历获取每个模块的模块信息,包括:

6.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,所述调用信息包括子模块的位置信息,以及对子模块进行偏移、旋转、放...

【专利技术属性】
技术研发人员:张永博郭瑞琦
申请(专利权)人:杭州广立微电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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