【技术实现步骤摘要】
本申请涉及集成电路设计领域,特别是涉及一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质。
技术介绍
1、集成电路领域的eda(electronic design automation)工具对于图层间布尔运算操作或者drc(design rule check)检查时采用打平(flattern)模式进行处理,因此在实际的图形操作中常需要将hierarchy层级进行打平以获得图形间的相关联系,即需要对版图图层进行快速打平处理。
2、但是在现有技术的超大规模集成电路设计中,对版图数据文件进行打平的常见方式以循环递归为主,但是此方式存在大量的重复计算,导致打平处理过程中的数据量较多。
3、针对相关技术中存在版图打平处理过程中的数据量较多的问题,目前还没有提出有效的解决方案。
技术实现思路
1、在本实施例中提供了一种版图处理方法、装置和计算机可读存储介质,以解决相关技术中版图打平处理过程中的数据量较多的问题。
2、第一个方面,在本实施例中提供了一种版图处理方法,所述方法包
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【技术保护点】
1.一种版图处理方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述模块信息包括所述模块内的基础图素,以及所述基础图素对应的偏移信息;
3.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,将所述变换结果添加至所述模块的模块信息进行更新,包括:
4.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述获得处理结果,包括:
5.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述遍历获取每个模块的模块信息,包括:
6.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,所述调用信息包括子模
...【技术特征摘要】
1.一种版图处理方法,其特征在于,所述方法包括:
2.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述模块信息包括所述模块内的基础图素,以及所述基础图素对应的偏移信息;
3.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,将所述变换结果添加至所述模块的模块信息进行更新,包括:
4.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述获得处理结果,包括:
5.根据权利要求1所述的版图处理方法,其特征在于,所述遍历获取每个模块的模块信息,包括:
6.根据权利要求2所述的版图处理方法,其特征在于,所述调用信息包括子模块的位置信息,以及对子模块进行偏移、旋转、放...
【专利技术属性】
技术研发人员:张永博,郭瑞琦,
申请(专利权)人:杭州广立微电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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