【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于医药领域,特别涉及一种聚合物修饰c3n4纳米颗粒及制备方法与药物用途。
技术介绍
1、肝豆状核变性是因铜转运atp酶β(atp7b)基因突变而导致的铜代谢障碍性疾病,可在任何年龄发病,主要以儿童、青少年多见。d-青霉胺是口服治疗肝豆状核变性的首选药,但不良反应较多,如早期过敏反应,神经系统症状恶化、肾脏毒性及皮肤毒性等,约30%的患者因不良反应停药。
2、c3n4作为氮化碳家族的一员,因其独特的光学和电学性能、无毒性、可降解性、成本效益和卓越的生物相容性得到了广泛的关注。但是,c3n4的稳定性较差,限制了其应用。
技术实现思路
1、本专利技术的首要目的在于克服现有技术的缺点与不足,提供一种聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法。
2、本专利技术的另一目的在于提供通过上述制备方法得到的聚合物修饰c3n4纳米颗粒。
3、本专利技术的再一目的在于提供上述聚合物修饰c3n4纳米颗粒的应用。
4、本专利技术的目的通过下述技术方案实现:一种聚
...【技术保护点】
1.一种聚合物修饰C3N4纳米颗粒的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的聚合物修饰C3N4纳米颗粒的制备方法,其特征在于还包括如下步骤:
3.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰C3N4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的透明质酸和所述的C3N4按质量比4~6:2配比。
4.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰C3N4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:
5.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰C3N4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:
6.根据权利要求5所述的聚合物修饰C3N4纳米
...【技术特征摘要】
1.一种聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法,其特征在于还包括如下步骤:
3.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:步骤(1)中所述的透明质酸和所述的c3n4按质量比4~6:2配比。
4.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:
5.根据权利要求1或2所述的聚合物修饰c3n4纳米颗粒的制备方法,其特征在于:
6.根...
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