一种一步法熔盐电解制备高硅钢的方法技术

技术编号:43304894 阅读:31 留言:0更新日期:2024-11-12 16:20
本发明专利技术提供了一种一步法熔盐电解制备高硅钢的方法,属于金属材料合成与加工领域。本发明专利技术采用氟化物、氯化物熔盐加入氧化物、氟硅酸盐的工艺,取基底为≤3wt%Si的硅钢或纯铁,厚度为0.1~0.65mm,宽度为10mm。经表面处理作阴极,硅棒作阳极,在氟化物、氯化物熔盐中经过特定的温度恒电流电解进行沉积硅和扩散硅处理,本发明专利技术通过调控电流密度、电解温度、时间和熔盐中硅离子浓度等参数,在1000℃~1200℃沉积和扩散同时进行,使沉积的硅均匀扩散至基体内部,最终制得6.5wt%Si硅钢。该工艺使用≤3wt%Si硅钢或纯铁为初始原料,制备的高硅钢具有良好的磁性能和延伸性能,实现了熔盐及电解质的绿色循环利用,易加工且可大规模生产应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高硅钢材料的制备方法,特别是利用一步法熔盐电解制备高硅钢的方法,属冶金材料。


技术介绍

1、fe-si合金,通常被称为硅钢,是制造发电机、电动机、变压器、互感器、继电器的关键磁性材料,广泛应用于电力和电子工业。硅钢是磁性材料领域中产量和使用量最大的材料之一,在贮存和转换能量等方面发挥着至关重要的作用。在现有技术中,硅含量达到6.5wt%的硅钢具有出色的软磁性能,包括高磁导率、低矫顽力和低铁损等特点,因此被广泛视为实现高效和节能的理想铁芯材料。然而,随着硅含量的增加,硅钢的延伸率急剧恶化,这使得它在加工成型方面存在挑战,从而限制了其工业化生产和广泛应用。

2、通过快速凝固制备高硅钢带材时需要非常大的冷却速度。因此,快速凝固制备的高硅钢带材厚度一般在0.02mm~0.06mm之间。尺寸存在较大限制,严重制约着高硅钢带材的使用范围。cvd法则是先在低硅状态下轧制,再向硅钢中添加硅提高硅含量。通过连续cvd炉,向硅钢表面生成一层fe3si物质,然后提高温度促进硅向硅钢内扩散,最终制备出fe-6.5wt%si合金带。然而,cvd工艺稳定本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种一步法熔盐电解制备高硅钢的方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,以电解质混合物总质量计,所述钡盐的占比为10%-40%、所述碱金属盐占比为40-60%、所述电解质A占比为10-40%。

3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:将电解质进行加热去除水分的预处理步骤,所述加热的温度为200~300℃,保温时间不低于12h。

4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述步骤2)中将电解容器升温至1000-1200℃后保温20-30min。

5.如权利要求1或2所述的方法,其特征在...

【技术特征摘要】

1.一种一步法熔盐电解制备高硅钢的方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,以电解质混合物总质量计,所述钡盐的占比为10%-40%、所述碱金属盐占比为40-60%、所述电解质a占比为10-40%。

3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:将电解质进行加热去除水分的预处理步骤,所述加热的温度为200~300℃,保温时间不低于12h。

4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述步骤2)中将电解容器升温至1000-1200℃后保温20-30min。

5.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述步骤1)的阴极为si含量≤3wt%...

【专利技术属性】
技术研发人员:焦树强王哲许靓雅李世杰黄峥
申请(专利权)人:兰州理工大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1