溶液吸光率谱测量装置及方法制造方法及图纸

技术编号:43296911 阅读:18 留言:0更新日期:2024-11-12 16:14
本发明专利技术属于光谱学技术领域,尤其涉及一种溶液吸光率谱测量装置及方法。装置包括连续谱白光光源、比色皿支架、可变光程组装比色皿、光纤光谱仪和上位机,可变光程组装比色皿内置有待测溶液,可变光程组装比色皿设置在比色皿支架内,连续谱白光光源发出的白光透过待测溶液后入射至光纤光谱仪内,光纤光谱仪与上位机相连,光纤光谱仪在上位机的控制下采集白光的光谱,上位机根据光谱计算待测溶液的吸光率谱。本发明专利技术适用于微量、溶剂化效应强和高透明溶液,装置的成本低,且能够实现一次性吸光率谱测量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光谱学,尤其涉及一种溶液吸光率谱测量装置及方法


技术介绍

1、溶液吸光率的测量已经发展出多种成熟方法。主流的测量溶液光谱透过率的方法包括分光光度计法、光纤光谱仪测量法。无论哪一种测量方法,为了获得最佳的准确率都需要引入参考样品,对测量结果进行透过率标定;或者测量不同浓度或光程的样品,基于比尔朗伯定律求解溶液的吸收度。

2、使用分光光度计或光谱仪测量样品吸光率谱时,参考样品一般是空样品池或相同溶剂的样品池,两者都会引入一定误差。若被测液体是纯液体,则无法通过相同溶剂样品池的本身进行标定,因此需要使用空样品池标定,其内部会受到空气与池壁界面的反射和散射影响,从而降低准确率。因此,国标gb/t 7962.9-2010采用的是利用折射率计算反射率并刨除的做法。异曲同工地,名称为“液体光谱透过率的测量方法”的中国专利技术专利(公开号为cn104880426a,公开日为2015年9月2日)使用折射仪测量液体及池壁的折射率,计算出界面反射率,从而对透过率误差进行修正。

3、由于反射率受到镀膜,表面微形貌特性等的影响,在2022年发本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:包括连续谱白光光源、比色皿支架、可变光程组装比色皿、光纤光谱仪和上位机,其中,

2.根据权利要求1所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述可变光程组装比色皿包括两片熔融石英片与硅胶组件,两片熔融石英片设置在所述硅胶组件的两侧,避免所述硅胶组件内置放的待测溶液流出。

3.根据权利要求2所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述硅胶组件包括不少于一个的硅胶块,所述硅胶块的中心设有液槽,所述液槽用于置放所述待测溶液。

4.根据权利要求3所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述硅胶块的硬度大于70HA,所述硅...

【技术特征摘要】

1.一种溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:包括连续谱白光光源、比色皿支架、可变光程组装比色皿、光纤光谱仪和上位机,其中,

2.根据权利要求1所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述可变光程组装比色皿包括两片熔融石英片与硅胶组件,两片熔融石英片设置在所述硅胶组件的两侧,避免所述硅胶组件内置放的待测溶液流出。

3.根据权利要求2所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述硅胶组件包括不少于一个的硅胶块,所述硅胶块的中心设有液槽,所述液槽用于置放所述待测溶液。

4.根据权利要求3所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述硅胶块的硬度大于70ha,所述硅胶块的厚度为1mm,所述熔融石英片在400nm-1100nm的波长范围内的透过率高于90%。

5.根据权利要求1所述的溶液吸光率谱测量装置,其特征在于:所述上位机包括计算机。

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【专利技术属性】
技术研发人员:张云峰邵俊峰王佳敏郑长彬王春锐陈飞
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
类型:发明
国别省市:

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