化合物、组合物、表面处理剂、物品和物品的制造方法技术

一种化合物，其包含：下述基团1、属于亚烷基链或聚环氧烷链的部分结构和下述基团2。基团1：‑SiR13。基团2：‑Si(R2)nL3‑n。R1各自独立地为烃基或三烷基甲硅烷氧基，R2各自独立地为烃基，L各自独立地为水解性基团或羟基，n为0～2的整数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及化合物、组合物、表面处理剂、物品和物品的制造方法。

技术介绍

1、近年来，为了改善外观、可视性等性能，寻求在物品的表面不易施加指纹的技术、容易使污垢掉落的技术。作为具体的方法，已知有：用表面处理剂对物品的表面进行表面处理的方法。

2、例如专利文献1中记载了一种组合物，其包含具有至少1个三烷基甲硅烷基和2个以上的水解性硅基的有机硅化合物、以及金属原子上键合有至少1个水解性基团的金属化合物。专利文献2中记载了一种在基材表面形成有机薄膜的有机薄膜的制造方法，其具备至少如下工序：使包含具有至少1个以上的水解性基团或羟基的金属系表面活性剂、以及能跟该金属系表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与基材接触。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2017-119849号公报

6、专利文献2：国际公开第2008/016029号

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、另一方面，对于表面处理剂等中使用的组合物，从拒水性和本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种化合物，其包含：下述基团1、属于碳数3以上的亚烷基链或聚环氧烷链的部分结构和下述基团2，

2.根据权利要求1所述的化合物，其用下述式1表示，

3.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述式1中，Z为碳数10以上的亚烷基链。

4.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述式1中，Z是重复数为3以上的聚环氧烷链。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，R1各自独立地为三烷基甲硅烷氧基。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，R1各自独立地为三甲基甲硅烷氧基或三乙基甲硅烷氧基。

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种化合物，其包含：下述基团1、属于碳数3以上的亚烷基链或聚环氧烷链的部分结构和下述基团2，

2.根据权利要求1所述的化合物，其用下述式1表示，

3.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述式1中，z为碳数10以上的亚烷基链。

4.根据权利要求2所述的化合物，其中，所述式1中，z是重复数为3以上的聚环氧烷链。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，r1各自独立地为三烷基甲硅烷氧基。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，r1各自独立地为三甲基甲硅烷氧基或三乙基甲硅烷氧基。

7.根据权利要求2～6中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，p为2～4。

8.根据权利要求2～7中任一项所述的化合物，其中，所述式1中，q为2～4。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边弘毅，青山元志，平田泰启，阪口博信，安乐英一郎，川上汐织，
申请(专利权)人：AGC株式会社，
类型：发明
国别省市：