回风装置及气浴系统制造方法及图纸

本技术提供一种回风装置及气浴系统。其中，回风装置包括：回风管和调风组件；回风管的部分侧壁具有多个第一网孔，以使气体能够流入回风管；调风组件包括多个挡板；多个挡板分别覆盖于回风管的外侧壁，且能够相对回风管移动，以经遮挡对应的第一网孔，分别调节回风管中各个区域流入的风量。可见，本技术利用调风组件中的挡板分段式调节回风管各个区域的进风量，以确保回风管内进气量均衡。以及，在气浴系统中，经各个挡板的调节，每个回风装置内的进风量均相等，避免了因防护壳体内部分区域风量过大而形成涡流、局部高速区或高污染区等，以及避免因部分区域风量过小而形成局部流动死区等，有效保障设备运行的稳定性和设备空间高洁净度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体设备制造，特别涉及一种回风装置及气浴系统。

技术介绍

1、随着半导体技术的不断发展，半导体制程对设备内部洁净度的要求也越来越高。因此，为避免灰尘或其他杂质的污染，设备内部布置有气浴系统。所述气浴系统一般包括送风管、回风管和过滤器等部件。其中，经过滤器过滤后的洁净气体由送风管输送至设备所在腔体内，以吹扫半导体设备。所述回风管设置于设备所在腔体内，用于将混有污染物的气体带离所述腔体，改善所述腔体的清洁度。然而，鉴于现有技术中回风管的结构设计及分布，腔体内的各个回风管之间的进风量存在较大的差距，则容易在腔体内形成涡流、局部流动死区或局部高速区等，甚至还会聚集污染物形成高污染区，严重影响半导体设备的洁净度和设备运行的稳定性。

2、因此，亟需一种新的回风装置，以解决上述问题。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种回风装置及气浴系统，以解决如何缓解气浴系统中回风装置进风量不均匀，如何提高半导体设备运行稳定性中的至少一个问题。

2、为解决上述技术问题，本技术提供一种回风装置，包本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种回风装置，其特征在于，包括回风管和调风组件；

2.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述多个挡板分别覆盖于所述回风管上设置有所述第一网孔的区域，且所述挡板具有多个第二网孔。

3.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述挡板经若干个螺钉连接于所述回风管的外侧壁上，且所述螺钉对应的所述挡板上的螺孔为长腰孔，以使所述挡板能够沿所述长腰孔的孔向相对所述回风管移动。

4.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述回风管具有相对的两端，其中一端具有连通孔，以使流入所述回风管内的所述气体经所述连通孔流出。

5.根据权利要求1～4...

【技术特征摘要】

1.一种回风装置，其特征在于，包括回风管和调风组件；

2.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述多个挡板分别覆盖于所述回风管上设置有所述第一网孔的区域，且所述挡板具有多个第二网孔。

3.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述挡板经若干个螺钉连接于所述回风管的外侧壁上，且所述螺钉对应的所述挡板上的螺孔为长腰孔，以使所述挡板能够沿所述长腰孔的孔向相对所述回风管移动。

4.根据权利要求1所述的回风装置，其特征在于，所述回风管具有相对的两端，其中一端具有连通孔，以使流入所述回风管内的所述气体经所述连通孔流出。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的回风装置，其特征在于，所述调风组件还包括多个电机和多个连接杆；其中，所述电机设置于所述回风管的外侧壁上，所述连接杆分别连接一个所述挡板和一个所述电机，以在所述电机的驱动下，所述连接杆带动所述挡板相对所述回风管移动。

6.一种气浴系统，用于清洁半导体设备，其中，所述半导体设备容置于防护壳体内，并安装于所述防护壳体内的框架中，其特征在于，所述气浴系统包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：郎东春，徐凤森，颜小龙，周许超，袁林栋，陈朵朵，程宇，陈楠，吴建，许盼盼，齐会平，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：