用于制造显示装置的设备以及掩模组件制造方法及图纸

技术编号:43284214 阅读:16 留言:0更新日期:2024-11-12 16:06
本申请公开一种用于制造显示装置的设备以及掩模组件。用于制造显示装置的设备包括:腔室;掩模组件,设置在腔室内部以面对显示基板;以及沉积源单元,设置在腔室内部以面对掩模组件,提供沉积材料,并且将沉积材料通过穿过掩模组件沉积在显示基板上,其中掩模组件包括:第一掩模层,包括第一掩模开口;以及第二掩模层,设置在第一掩模层上并且包括与第一掩模开口重叠的第二掩模开口,并且第二掩模层包括:第一无机层、设置在第一无机层上的第一有机层以及设置在第一有机层上的第二无机层。

【技术实现步骤摘要】

一个或更多个实施例涉及一种设备和方法,更具体地,涉及一种用于制造显示装置的设备、制造显示装置的方法以及掩模组件。


技术介绍

1、显示装置可视地显示数据。显示装置可通过使用发光二极管来提供图像。近来,显示装置的用途已经多样化。相应地,已经尝试显示装置的各种设计以改善显示装置的质量。


技术实现思路

1、一个或更多个实施例包括掩模组件,该掩模组件能够容易地进行厚度调节,改善耐用性,并且减少(或最小化)沉积材料穿过开口的堵塞现象。

2、然而,本公开的各实施例不限于在本文中陈述的那些。通过参考下面给出的本公开的详细描述,对于本公开所属领域的普通技术人员,以上和其他实施例将变得更加明显。

3、根据一个或更多个实施例,用于制造显示装置的设备可包括:腔室;掩模组件,设置在腔室内部以面对显示基板;以及沉积源单元,设置在腔室内部以面对掩模组件,供应沉积材料,并且将沉积材料通过穿过掩模组件沉积在显示基板上,其中掩模组件可包括:第一掩模层,包括第一掩模开口;以及第二掩模层,设置在第一掩模层上并且包括与第一掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于制造显示装置的设备,其特征在于,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述第二掩模开口包括:

3.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一有机开口的宽度大于所述第二无机开口的宽度,并且所述第一无机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。

4.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一无机开口的宽度、所述第一有机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。

5.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一有机层的厚度大于所述第一无机层的厚度和所述第二无机层的厚...

【技术特征摘要】

1.一种用于制造显示装置的设备,其特征在于,所述设备包括:

2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,所述第二掩模开口包括:

3.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一有机开口的宽度大于所述第二无机开口的宽度,并且所述第一无机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。

4.根据权利要求2所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一无机开口的宽度、所述第一有机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。

5.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,在截面图中,所述第一有机层...

【专利技术属性】
技术研发人员:金桢国宋昇勇李德重赵原济
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:新型
国别省市:

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