【技术实现步骤摘要】
一个或更多个实施例涉及一种设备和方法，更具体地，涉及一种用于制造显示装置的设备、制造显示装置的方法以及掩模组件。
技术介绍
1、显示装置可视地显示数据。显示装置可通过使用发光二极管来提供图像。近来，显示装置的用途已经多样化。相应地，已经尝试显示装置的各种设计以改善显示装置的质量。
技术实现思路
1、一个或更多个实施例包括掩模组件，该掩模组件能够容易地进行厚度调节，改善耐用性，并且减少(或最小化)沉积材料穿过开口的堵塞现象。
2、然而，本公开的各实施例不限于在本文中陈述的那些。通过参考下面给出的本公开的详细描述，对于本公开所属领域的普通技术人员，以上和其他实施例将变得更加明显。
3、根据一个或更多个实施例，用于制造显示装置的设备可包括：腔室；掩模组件，设置在腔室内部以面对显示基板；以及沉积源单元，设置在腔室内部以面对掩模组件，供应沉积材料，并且将沉积材料通过穿过掩模组件沉积在显示基板上，其中掩模组件可包括：第一掩模层，包括第一掩模开口；以及第二掩模层，设置在第一掩模层上并且包括与第一掩模开口重叠的第二掩模开口，其中第二掩模层可包括第一无机层、设置在第一无机层上的第一有机层和设置在第一有机层上的第二无机层。
4、在一实施例中，第二掩模开口可包括：第一无机开口，限定在第一无机层中；第一有机开口，限定在第一有机层中；以及第二无机开口，限定在第二无机层中。
5、在一实施例中，在截面图中，第一有机开口的宽度可大于第二无机开口的宽度。
7、在一实施例中，在截面图中，第一无机开口的宽度、第一有机开口的宽度和第二无机开口的宽度可彼此相同。
8、在一实施例中，在截面图中，第一有机层的厚度可大于第一无机层的厚度和第二无机层的厚度。
9、在一实施例中，第一掩模层可包括硅材料。
10、在一实施例中，第二掩模层可进一步包括设置在第二无机层上的第二有机层和设置在第二有机层上的第三无机层。
11、根据一个或更多个实施例，制造显示装置的方法可包括：将显示基板设置在腔室内部；将掩模组件设置在腔室内部；以及从沉积源单元朝向掩模组件供应沉积材料，其中设置掩模组件可包括：在第一掩模层上设置第二掩模层；在第一掩模层中形成第一掩模开口；以及在第二掩模层中形成第二掩模开口，其中设置第二掩模层可包括：在第一掩模层上设置第一无机层；在第一无机层上设置第一有机层；以及在第一有机层上设置第二无机层。
12、在一实施例中，形成第二掩模开口可包括：在第一无机层中形成第一无机开口，在第一有机层中形成第一有机开口，以及在第二无机层中形成第二无机开口。
13、在一实施例中，形成第二无机开口可包括：在第二无机层上设置第一光致抗蚀剂层，第一光致抗蚀剂层中限定有第一光开口，刻蚀第二无机层的与第一光开口重叠的一部分，以及去除第一光致抗蚀剂层。
14、在一实施例中，形成第一有机开口可包括刻蚀第一有机层的与第二无机开口重叠的一部分。
15、在一实施例中，在截面图中，第一有机开口的宽度可大于第二无机开口的宽度。
16、在一实施例中，形成第一无机开口可包括刻蚀第一无机层的与第二无机开口重叠的一部分。
17、在一实施例中，在截面图中，第一无机开口的宽度和第二无机开口的宽度可彼此相同。
18、根据一个或更多个实施例，掩模组件可包括：第一掩模层，包括第一掩模开口；以及第二掩模层，设置在第一掩模层上并且包括与第一掩模开口重叠的第二掩模开口，其中第二掩模层可包括第一无机层、设置在第一无机层上的第一有机层和设置在第一有机层上的第二无机层。
19、在一实施例中，第二掩模开口可包括限定在第一无机层中的第一无机开口、限定在第一有机层中的第一有机开口和限定在第二无机层中的第二无机开口。
20、在一实施例中，在截面图中，第一有机开口的宽度可大于第二无机开口的宽度。
21、在一实施例中，在截面图中，第一有机层的厚度可大于第一无机层的厚度和第二无机层的厚度。
22、在一实施例中，第一掩模层可包括硅材料。
23、从本公开的下面的附图、权利要求和详细描述中，除了上面描述的那些之外的其他方面、特征和优点现在将变得明显。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种用于制造显示装置的设备，其特征在于，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二掩模开口包括：
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一有机开口的宽度大于所述第二无机开口的宽度，并且所述第一无机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。
4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一无机开口的宽度、所述第一有机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。
5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一有机层的厚度大于所述第一无机层的厚度和所述第二无机层的厚度。
6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二掩模层进一步包括：
7.一种掩模组件，其特征在于，所述掩模组件包括：
8.根据权利要求7所述的掩模组件，其特征在于，所述第二掩模开口包括：
9.根据权利要求8所述的掩模组件，其特征在于，在截面图中，所述第一有机开口的宽度大于所述第二无机开口的宽度。
10.根据权利要求7所述的掩模组件
...【技术特征摘要】
1.一种用于制造显示装置的设备，其特征在于，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二掩模开口包括：
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一有机开口的宽度大于所述第二无机开口的宽度，并且所述第一无机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。
4.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一无机开口的宽度、所述第一有机开口的宽度和所述第二无机开口的宽度彼此相同。
5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，在截面图中，所述第一有机层...
【专利技术属性】
技术研发人员：金桢国，宋昇勇，李德重，赵原济，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：新型
国别省市：
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