【技术实现步骤摘要】
本技术涉及大米加工设备，尤其涉及一种大米抛光机下料控制装置。
技术介绍
1、大米抛光是大米加工过程中的一种工艺，其目的是为了提升大米的外观品质和口感。在大米抛光过程中，通过机器设备利用摩擦力和压力，将大米表面的糠皮、碎渣以及部分胚芽等去除，使得大米更加洁白透亮，在抛光过程还需要对大米进行润湿，用于大米表面降温。现有技术中，一般抛光设备对抛光下料不加控制，大米在抛光机的进料仓直接进入抛光空间，容易导致抛光机进料不适量，影响抛光机的抛光质量。
技术实现思路
1、本技术的目的是为了解决现有技术中大米抛光直接下料导致抛光不质量的问题，而提出的一种大米抛光机下料控制装置，对大米进行限流下料，形成适量下料，同时对大米抛光前进行除尘和润湿。
2、为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
3、一种大米抛光机下料控制装置，包括进料斗，进料斗的内部设置内孔为倒锥形的斜流套，斜流套的内部设置与斜流套在轴向滑动连接的控制块，控制块与斜流套内孔之间形成物料通道，控制块包括集气罩，斜流套的...
【技术保护点】
1.一种大米抛光机下料控制装置，包括进料斗(1)，所述进料斗(1)的内部设置内孔为倒锥形的斜流套(5)，所述斜流套(5)的内部设置与斜流套(5)在轴向滑动连接的控制块，所述控制块与斜流套(5)内孔之间形成物料通道，其特征在于，所述控制块包括集气罩(4)，所述集气罩(4)为与斜流套(5)同轴设置的罩体，所述集气罩(4)的顶部固定设置与集气罩(4)连通的排气杆(3)；
2.根据权利要求1所述的大米抛光机下料控制装置，其特征在于，还包括清洗箱(8)，所述清洗箱(8)的底部通过鼓风管(13)连通鼓风机(12)的出风端，所述清洗箱(8)的顶部通过进气管(14)连通集
...【技术特征摘要】
1.一种大米抛光机下料控制装置，包括进料斗(1)，所述进料斗(1)的内部设置内孔为倒锥形的斜流套(5)，所述斜流套(5)的内部设置与斜流套(5)在轴向滑动连接的控制块，所述控制块与斜流套(5)内孔之间形成物料通道，其特征在于，所述控制块包括集气罩(4)，所述集气罩(4)为与斜流套(5)同轴设置的罩体，所述集气罩(4)的顶部固定设置与集气罩(4)连通的排气杆(3)；
2.根据权利要求1所述的大米抛光机下料控制装置，其特征在于，还包括清洗箱(8)，所述清洗箱(8)的底部通过鼓风管(13)连通鼓风机(12)的出风端，所述清洗箱(8)的顶部通过进气管(14)连通集气环(7)；
3.根据权利要求2所述的大米抛光机下料控制装置，其特征在于，所述进料斗(1)的内部设置支撑架(2)，所述支撑架(2)上设置与排气杆(...
【专利技术属性】
技术研发人员：雷庆田，段璇，李春生，
申请(专利权)人：湖南鸿腾农业发展有限公司，
类型：新型
国别省市：
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