【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及硅片清洗，具体为一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺。
技术介绍
1、硅片在进行加工的过程中，由于硅原子非常容易在含有氧气及水的环境下被氧化形成自然氧化层较薄，该氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着，例如公开号为cn111613554b所公开的硅片清洗机，该申请通过将硅片放在清洗篮内进行清洗，虽然能够降低硅片相互碰撞而刮伤的风险，但是仍然存在着氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着的问题，因此提出一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种提升最终洗净后表面颗粒的设备和清洗工艺，解决了硅片在进行加工的过程中，由于硅原子非常容易在含有氧气及水的环境下被氧化形成自然氧化层较薄，该氧化层表现的亲水性会影响硅片表面颗粒的剥离与附着的问题。
2、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池、连通在清洗池上的液位仪，所述清洗池的侧壁上通过...
【技术保护点】
1.一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池(1)、连通在清洗池(1)上的液位仪(12)，其特征在于：所述清洗池(1)的侧壁上通过安装板固定有电动推杆(13)，所述电动推杆(13)的顶部固定有支撑柱(14)，所述支撑柱(14)的底部设置有盛放网(15)，所述盛放网(15)的内部侧壁上固定有固定夹(16)，所述支撑柱(14)上设置有用于连接盛放网(15)的连接组件以及驱动盛放网(15)转动的动力组件，所述连接组件中包括：
2.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述活动轴(2)内穿设有横杆(23)，所述横杆(23)内固定有弹...
【技术特征摘要】
1.一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，包括清洗池(1)、连通在清洗池(1)上的液位仪(12)，其特征在于：所述清洗池(1)的侧壁上通过安装板固定有电动推杆(13)，所述电动推杆(13)的顶部固定有支撑柱(14)，所述支撑柱(14)的底部设置有盛放网(15)，所述盛放网(15)的内部侧壁上固定有固定夹(16)，所述支撑柱(14)上设置有用于连接盛放网(15)的连接组件以及驱动盛放网(15)转动的动力组件，所述连接组件中包括：
2.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述活动轴(2)内穿设有横杆(23)，所述横杆(23)内固定有弹簧(24)，所述弹簧(24)的一端固定有凸块(25)。
3.根据权利要求2所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述凸块(25)的一端从横杆(23)内滑动穿出，所述凸块(25)的侧壁上固定有连杆(26)，所述凸块(25)的另一侧壁上固定有推杆(27)，所述推杆(27)的一端从横杆(23)内滑动穿出。
4.根据权利要求1所述的一种提升最终洗净后表面颗粒的设备，其特征在于：所述支撑柱(14)的侧壁上通过电机箱固定有包括在动力组件内的动力电机(3)，所述动力电机(3)的输出端上固定有输出轴(31...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱墨涵，
申请(专利权)人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。