【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及立体成像，特别涉及结构光成像装置。
技术介绍
1、现有的单目3d(三维)结构光成像装置包括发射模组、接收模组以及镜头模组等，发射模组用于将光源发射出的光线或光波导向待成像物体，接收模组用于接收由待成像物体反射或散射回来的光线或光波，镜头模组用于聚焦光线并形成图像。3d成像装置通过捕捉反射光的特定模式或图案，利用算法能够计算出物体的三维形状和位置，进而形成具备空闲信息的三维图像。
2、目前，结构光成像装置的发射模组和接收模组通常是区分为两个模组进行设置，以保证发射光线和接收光线之间的光线路径的准确性，避免发生光线相互干扰的问题，但是3d成像装置基于发射模组和接收模组两个独立模组组成，造成装置体积较大，且装配结构复杂，其生产成本较高。
技术实现思路
1、本专利技术提供结构光成像装置，其能够减小装置体积，降低生产成本。
2、在本专利技术的一个方面，提供一种结构光成像装置。该装置包括发射端、接收端、转折棱镜和超透镜，其中所述发射端被配置为沿着第一路径发射第一光...
【技术保护点】
1.一种结构光成像装置，其特征在于，包括发射端、接收端、转折棱镜和超透镜，其中
2.根据权利要求1所述的结构光成像装置，其特征在于，所述超透镜包括被设置在基板上的第一纳米结构单元和第二纳米结构单元，
3.根据权利要求2所述的结构光成像装置，其特征在于，所述第一纳米结构单元包括多个第一纳米柱，所述第二纳米结构单元包括多个第二纳米柱，所述多个第一纳米柱和所述多个第二纳米柱彼此交替排列在所述基板上，并且所述多个第一纳米柱的尺寸和材料不同于所述多个第二纳米柱的尺寸和材料，
4.根据权利要求1所述的结构光成像装置，其特征在于，所述转折棱镜被配...
【技术特征摘要】
1.一种结构光成像装置，其特征在于，包括发射端、接收端、转折棱镜和超透镜，其中
2.根据权利要求1所述的结构光成像装置，其特征在于，所述超透镜包括被设置在基板上的第一纳米结构单元和第二纳米结构单元，
3.根据权利要求2所述的结构光成像装置，其特征在于，所述第一纳米结构单元包括多个第一纳米柱，所述第二纳米结构单元包括多个第二纳米柱，所述多个第一纳米柱和所述多个第二纳米柱彼此交替排列在所述基板上，并且所述多个第一纳米柱的尺寸和材料不同于所述多个第二纳米柱的尺寸和材料，
4.根据权利要求1所述的结构光成像装置，其特征在于，所述转折棱镜被配置为将所述第一光线以及所述第二光线和所述第三光线汇聚到不同方向，使得发射所述第一光线和接收所述第二光线和所述第三光线互不干扰。
5.根据权利要求1所述的结构光成像装置，其特征在于，还包括镜头单元，
6.根据权利要求5所述的结构光成像装置，其特征在于，所述第一方向和所述第二方向与所述镜头单元的...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗亮，
申请(专利权)人：瑞芯微电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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