一种荧光全场成像设备、成像系统及成像方法技术方案

本发明专利技术提供了一种荧光全场成像设备、成像系统及成像方法，涉及X射线成像领域，荧光全场成像设备包括第一工作台、过滤件、检测件、发射件及聚集件，第一工作台上设置有承托位，承托位用于承托样品，过滤件上设置有过滤孔，发射件用于发射第一X射线束，且第一X射线束为液体金属射流X射线束，聚集件用于接收并聚集第一X射线束，并形成单色的第二X射线束，且第二X射线束沿着第一预设方向射入样品上，以使样品释放X射线荧光，检测件用于采集穿过过滤孔的X射线荧光，相比于固态金属阳极靶X射线源，液体金属射流X射线束亮度高，以使得样品能获得更多的X射线光子数，并能激发更多的荧光光子数，以能缩短检测件获取的采集时间，提高成像效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及x射线成像领域，尤其涉及一种荧光全场成像设备、成像系统及成像方法。

技术介绍

1、x射线荧光全场成像技术是一种通过采集样品中受大面积x射线光束照射产生的特征x射线荧光信息来得到物质元素二维空间分布的技术。结合计算机断层扫描成像(ct，computed tomography)原理，x射线荧光全场成像技术可以得到物质元素的三维空间分布信息。

2、在大面积采集样品所产生的x射线荧光的过程中，存在采集周期长、成像效果差等情况，影响了样品元素的成像效率。

技术实现思路

1、为克服现有技术中的不足，本申请提供一种荧光全场成像设备、成像系统及成像方法。

2、第一方面，本申请提供的一种荧光全场成像设备，包括：第一工作台、过滤件、检测件、发射件及聚集件，所述第一工作台上设置有承托位，所述承托位用于承托样品，所述过滤件设置于所述第一工作台上，且所述过滤件上设置有过滤孔，所述检测件设置于所述第一工作台上，且所述检测件位于所述过滤件背离所述承托位的一侧，所述发射件设置于所述第一工作台的一侧，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种荧光全场成像设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述荧光全场成像设备还包括：

3.根据权利要求2所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述过滤件包括：

4.根据权利要求3所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述通孔具有第一预设孔径，所述过滤孔具有第二预设孔径，所述第一预设孔径大于所述第二预设孔径，且所述通孔沿第二预设方向贯穿所述遮挡件，所述第二预设方向与所述第一预设方向呈预设角度，所述遮挡件沿所述第二预设方向具有第一预设投影面，所述检测件沿所述第二预设方向具有第二预设投影面，所述第一预设投影面与所述第二...

【技术特征摘要】

1.一种荧光全场成像设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述荧光全场成像设备还包括：

3.根据权利要求2所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述过滤件包括：

4.根据权利要求3所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述通孔具有第一预设孔径，所述过滤孔具有第二预设孔径，所述第一预设孔径大于所述第二预设孔径，且所述通孔沿第二预设方向贯穿所述遮挡件，所述第二预设方向与所述第一预设方向呈预设角度，所述遮挡件沿所述第二预设方向具有第一预设投影面，所述检测件沿所述第二预设方向具有第二预设投影面，所述第一预设投影面与所述第二预设投影面至少部分重合，且所述第一预设投影面的面积大于或等于所述第二预设投影面的面积。

5.根据权利要求3所述的荧光全场成像设备，其特征在于，所述遮挡件具有相对设置的第一接触面与第二接触面，所述通孔沿第二预设方向贯...

【专利技术属性】
技术研发人员：林晓胜，李雷，刘亦帆，崔艺涛，
申请(专利权)人：深圳综合粒子设施研究院，
类型：发明
国别省市：