一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，它包括：固定在抛光头的轴部上的固定装置，安装在抛光头底部侧面边缘的一个锲型平台，固定装置与锲型平台之间用伸缩的连接杆连接，平台外侧有挡板，平台末端开放，引导抛光液排到抛光头轨迹经过的抛光布上。本实用新型专利技术的优点是装置简单，安装方便，可有效的提高抛光液使用率，降低使用成本。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置。
技术介绍
化学机械抛(CMP)作为一种主流平坦化技术，已经被半导体行业广泛使用。其过 程是化学腐蚀作用与机械去除作用共同作用的过程。CMP过程消耗材料是抛光液和抛光布。 在CMP光过程中，需要有抛光头吸附加工材料在抛光盘上做抛光运动。抛光液先被分布在 抛光布上，在抛光头压着材料进行CMP过程中，会有大量的抛光液刚被排放在抛光布上，随 着抛光头抛光过程，抛光液被抛光头挤到侧面，并直接从抛光盘边缘流失掉.据统计，在CMP过程中，抛光液的实际使用率只有15%左右，25%左右抛光液起到 润湿作用，而60%的抛光液没有起到任何作用就直接流失掉。传统的在抛光盘底部排液口 过滤回收抛光液，可以得到有反应物的掺杂的抛光液，但对于抛光器件表面要求比较高的 CMP过程来讲，比如精抛光，回收的抛光液无法使用。在CMP加工成本中，抛光液的成本占整 个加工成本的40飞0%，如何提高抛光液的使用效率成为降低成本的关键问题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，该装置可将流 经抛光头侧面的抛光液排放在抛光头轨迹经过的抛光布上，以提高抛光液使用效率。为了实现上述的目的，本技术采用以下的技术方案这种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置包括固定在抛光头的轴部上的固定装置，安装在抛光头底部侧面边缘的一个锲型平 台，固定装置与锲型平台之间用伸缩的连接杆连接，平台外侧有挡板，平台末端开放，引导 抛光液排到抛光头轨迹经过的抛光布上。除档板外，可以使用如凹槽等方式用于汇聚抛光液。被引导的抛光液可排到抛光 头轨迹经过的抛光布上，或其他指定位置。所述的锲型平台底部装有防止台面刮伤抛光布的滚轮。滚轮与抛光盘面距离可在0. 5 3mm之间。所述的伸缩的连接杆包括连杆I和连杆II，连杆I与固定套环以螺丝连接，连杆 II与锲型平台以螺丝连接，连杆I和连杆II由轴孔联接，轴位于连杆II的上部，孔位于连 杆I的下端，轴与孔之间可沿轴向移动。整个装置表层材料为四氟或其他不含金属的耐腐蚀塑料和聚脂类材料。本技术的优点是利用液体流动性与惯性，在抛光头底部靠近抛光盘边缘处 安装一个平台，平台外侧有收集抛光液功能的结构，可收集抛光头侧面涌入平台的抛光液， 并排放到抛光头轨迹上。此平台可以收集抛光盘面上一定高度以上的抛光液，其形状、大小 可以由实际情况决定；在平台外侧有挡板，但不限于使用挡板，也可以使用其他方式汇聚抛 光头侧面抛光液，并把他排放到抛光头轨迹的抛光布上，或其他指定位置，本装置简单，安3装方便，可有效的提高抛光液使用率，降低使用成本。附图说明图1 本技术的一种装置的俯视示意图。图2:图1的侧视示意图。图3 图1中伸缩的连接杆8的结构示意图。图4 锲型平台的横切面示意图。具体实施方式图1 4中，固定装置4为不锈钢制套环，外层有耐腐蚀喷漆，它固定在抛光头2 的轴部1上，并与可伸缩的连接杆8通过螺丝孔11相连，当抛光头抬起，连接杆8的上段连 杆I 8-1上升，带动连杆II 8-2抬起，使与连杆II 8-2同样通过螺丝孔相连接的锲型平台 5一起升起随抛光头2运动。当抛光头2下降至抛光盘3的时候，连接杆下端连杆II 8-2随着连杆I 一起下降， 锲型平台5底部的滑轮6和7首先接触台面，连杆II自然停止下降，保持了锲型平台5与 抛光盘3的表面无高压接触。可伸缩的连接杆8结构如图3所示。 抛光头2工作过程中，多余的抛光液从抛光头2两侧流出，外侧的抛光液被汇聚至 锲型平台5内，并由尾部流出至抛光头2的轨迹上，锲型台横截面如图4所示。其中6，7为 的塑料滚轮，以适应抛光盘3的旋转。权利要求一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于它包括固定在抛光头的轴部上的固定装置，安装在抛光头底部侧面边缘的一个锲型平台，固定装置与锲型平台之间用伸缩的连接杆连接，平台外侧有挡板，平台末端开放，引导抛光液排到抛光头轨迹经过的抛光布上。2.根据权利要求1所述的一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于所述 的锲型平台底部装有防止台面刮伤抛光布的滚轮。3.根据权利要求1或2所述的一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于 滚轮与抛光盘面距离在0. 5 3mm之间。4.根据权利要求1或2所述的一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于 所述的伸缩的连接杆包括连杆I和连杆II，连杆I与固定套环以螺丝连接，连杆II与锲型 平台以螺丝连接，连杆I和连杆II由轴孔联接，轴位于连杆II的上部，孔位于连杆I的下 端，轴与孔之间可沿轴向移动。5.根据权利要求1或2所述的一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于 整个装置表层材料为四氟。专利摘要一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，它包括固定在抛光头的轴部上的固定装置，安装在抛光头底部侧面边缘的一个锲型平台，固定装置与锲型平台之间用伸缩的连接杆连接，平台外侧有挡板，平台末端开放，引导抛光液排到抛光头轨迹经过的抛光布上。本技术的优点是装置简单，安装方便，可有效的提高抛光液使用率，降低使用成本。文档编号B24B57/00GK201625921SQ20092027802公开日2010年11月10日 申请日期2009年12月9日 优先权日2009年12月9日专利技术者库黎明, 索思卓 申请人:北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司;国泰半导体材料有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种安装在抛光头上的抛光液汇聚装置，其特征在于：它包括：固定在抛光头的轴部上的固定装置，安装在抛光头底部侧面边缘的一个锲型平台，固定装置与锲型平台之间用伸缩的连接杆连接，平台外侧有挡板，平台末端开放，引导抛光液排到抛光头轨迹经过的抛光布上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：索思卓，库黎明，
申请(专利权)人：北京有色金属研究总院，有研半导体材料股份有限公司，国泰半导体材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。