【技术实现步骤摘要】
本技术属于tft基板生产设备，尤其是涉及一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置。
技术介绍
1、tft全称为thin film transistor(薄膜场效应晶体管)，是指液晶显示器上的每一液晶象素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动，从而可以做到高速度高亮度高对比度显示屏幕信息，tft属于有源矩阵液晶显示器，而tft-lcd(薄膜晶体管液晶显示器)是多数液晶显示器的一种。通常tft是在玻璃或塑料基板等非单晶片上(当然也可以在晶片上)通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜，通过对膜的加工制作大规模半导体集成电路(lsic)。因此tft基板是tft生产制造过程中十分重要的部件。tft基板在利用化学蚀刻减薄工艺后，还需要进行表面抛光处理，之后需要将tft基板放入浸泡槽浸泡，以去除tft基板表面的抛光液，但现有的浸泡装置自动化程度低，导致tft基板浸泡清洗效率较低，同时现有浸泡装置在进行tft基板转运和吊装过程中稳定性不佳，可能造成tft基板破损，不利于提高tft基板的生产效率和良品率。
技术实现思路b>
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【技术保护点】
1.一种用于清洗抛光后TFT基板的浸泡装置，其特征在于：包括架体(1)、架体(1)一侧设置的移动平台(2)、以及架体(1)另一侧设置的浸泡槽(3)；所述移动平台(2)上设有可拆卸的TFT基板承载架(5)，所述架体(1)上对应移动平台(2)和浸泡槽(3)上方的位置设有用于抓取TFT基板承载架(5)的抓取机构；所述抓取机构包括架体(1)上水平设置的移动架(8)、以及移动架(8)上设置的抓取组件，所述移动架(8)上设有用于驱动抓取组件升降的升降组件，移动架(8)上对应抓取组件下方的位置设有用于定位TFT基板承载架(5)的定位组件。
2.根据权利要求1所述的一种用...
【技术特征摘要】
1.一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置，其特征在于：包括架体(1)、架体(1)一侧设置的移动平台(2)、以及架体(1)另一侧设置的浸泡槽(3)；所述移动平台(2)上设有可拆卸的tft基板承载架(5)，所述架体(1)上对应移动平台(2)和浸泡槽(3)上方的位置设有用于抓取tft基板承载架(5)的抓取机构；所述抓取机构包括架体(1)上水平设置的移动架(8)、以及移动架(8)上设置的抓取组件，所述移动架(8)上设有用于驱动抓取组件升降的升降组件，移动架(8)上对应抓取组件下方的位置设有用于定位tft基板承载架(5)的定位组件。
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置，其特征在于：所述架体(1)上对应移动平台(2)的位置设有导向架(4)，所述导向架(4)一侧设有便于移动平台(2)进入的喇叭状开口；所述导向架(4)内侧间隔设有多个导向轮(14)，每一导向轮(14)均转动安装在导向架(4)上。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置，其特征在于：所述移动平台(2)上对应tft基板承载架(5)四周的位置设有多个定位块(6)，每一定位块(6)均一端设置在移动平台(2)上，另一端设有用于引导tft基板承载架(5)的斜面部。
4.根据权利要求3所述的一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置，其特征在于：所述定位块(6)上朝向tft基板承载架(5)的一侧设有缓冲垫片(15)。
5.根据权利要求4所述的一种用于清洗抛光后tft基板的浸泡装置，其特征在于：所述缓冲垫片(15)一端设置在斜面部上，另一端设有导向杆(16)；...
【专利技术属性】
技术研发人员：张成金，姚仕军，刘彩霞，曲培杰，赵帅，方添志，李义超，张君豪，袁宁，张仙伟，
申请(专利权)人：天津美泰真空技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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